モノクロームからテクニカラーへ  光除去可能な蛋白質耐性保護基を持つシロキサンを用いた多成分蛋白質ナノパターン形成への単純な一般的アプローチ【JST・京大機械翻訳】

El Zubir Osama; Xia Sijing; Ducker Robert E.; Wang Lin; Mullin Nic; Cartron Michaeel L.; Cadby Ashley J.; Hobbs Jamie K.; Hunter C. Neil; Leggett Graham J.

文献

J-GLOBAL ID：201902280515543662 整理番号：19A1809570

モノクロームからテクニカラーへ光除去可能な蛋白質耐性保護基を持つシロキサンを用いた多成分蛋白質ナノパターン形成への単純な一般的アプローチ【JST・京大機械翻訳】

From Monochrome to Technicolor: Simple Generic Approaches to Multicomponent Protein Nanopatterning Using Siloxanes with Photoremovable Protein-Resistant Protecting Groups

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巻： 33 号： 35 ページ： 8829-8837 発行年： 2017年
JST資料番号： A0231B ISSN： 0743-7463 CODEN： LANGD5 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

テトラエチレングリコール官能化ニトロフェニルエトキシカルボニル保護アミノプロピルトリエトキシシラン(NPEOC-APTES)から形成された膜の光脱保護により逐次蛋白質堆積が可能であることを示した。近UV照射への曝露は蛋白質耐性保護基を除去し,得られたアミノ化表面への蛋白質吸着を可能にした。蛋白質抵抗性を,蛍光標識を用いた蛋白質および黄色および緑色蛍光蛋白質(YFP/GFP)のマイクロおよびナノパターン形成および沈着により形成された二成分構造の顕微分光法を用いて試験した。保護基が無傷のままの領域への非特異的吸着は無視できた。多重成分パターンも近接場法により形成した。読み取りと書込みは近接場顕微鏡で分離できるので,異なる蛋白質を含む単一位置で逐次パターン形成ステップを行うことが可能である。4つの異なる蛋白質を,近接場リソグラフィーを用いて幾何学的パターンに形成した。干渉リソグラフィーは,正方形cm領域上の蛋白質の組織化を容易にする。約500nmの周期でGFPの棒の直交格子内に形成された150nmのストレプトアビジンドットから成る二成分パターンを蛍光顕微鏡によって解明することができた。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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蛋白質・ペプチド一般 , 固-液界面

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モノクロームからテクニカラーへ 光除去可能な蛋白質耐性保護基を持つシロキサンを用いた多成分蛋白質ナノパターン形成への単純な一般的アプローチ【JST・京大機械翻訳】

モノクロームからテクニカラーへ光除去可能な蛋白質耐性保護基を持つシロキサンを用いた多成分蛋白質ナノパターン形成への単純な一般的アプローチ【JST・京大機械翻訳】