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J-GLOBAL ID：201902280767125487   整理番号：19A0153039

高分子表面上での石鹸不含有の乳化重合とゾル-ゲル反応によるポリスチレン@シリカ粒子の合成

Synthesis of polystyrene@silica particles through soap-free emulsion polymerization and sol-gel reaction on polymer surfaces

著者 (2件)： Yamamoto Tetsuya (Department of Materials and Design Innovation Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Takahashi Yuya (Department of Materials and Design Innovation Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
資料名： Advanced Powder Technology  (Advanced Powder Technology)
巻： 30  号： 1  ページ： 214-218  発行年： 2019年01月 
JST資料番号： W0255A  ISSN： 0921-8831  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリスチレン@シリカ粒子を,高分子粒子表面上のオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)のゾル-ゲル反応を経るスチレンとN-ビニルアセトアミド(NVA)の石鹸不含有乳化重合(SFEP)により製造した。異なる量のNVAを用いて,SFEPプロセスによりポリスチレン粒子を調製した。次に,ポリ-NVAで被覆された粒子は,外部シリカシェルを形成するためにStoberプロセスを受けた。NVAは高分子コロイドを安定化し,高分子表面上の正電荷が静電的に吸着したTEOSにより部分的に中和された後でも,立体効果によりそれらの安定性を改善することが分かった。これは粒子凝集を誘導する傾向がある。さらに,NVA上の-NH官能基は,シリカを形成するためのゾル-ゲル反応におけるTEOSの加水分解を触媒した。結果として,低いゼータ電位を有するにもかかわらず,小さく,単分散で安定なコア-シェル粒子が形成された。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ハイブリッド複合材料 ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  *ポリスチレン ,  *酸化ケイ素 ,  乳化重合 ,  表面改質 ,  ゾル-ゲル法 ,  ζ電位 ,  安定化 ,  コアシェル構造 ,  重合

著者キーワード (4件)： ポリスチレン@シリカ粒子 ,  コロイド安定性 ,  ゾル-ゲル反応 ,  表面反応

分類 (2件)： その他の製品,半製品,利用  (YH06080T) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (2件)： N-ビニルアセトアミド ,  TEOS

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子表面 ,  石鹸 ,  乳化重合 ,  ゾル-ゲル反応 ,  ポリスチレン ,  シリカ粒子