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J-GLOBAL ID：201902281068719382   整理番号：19A0552126

半導体膜における表面ポラリトン対への解離に関連した二励起子緩和【JST・京大機械翻訳】

Biexciton relaxation associated with dissociation into a surface polariton pair in semiconductor films

著者 (7件)： Mitsumori Yasuyoshi (Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan) ,  Matsuura Shimpei (Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan) ,  Uchiyama Shoichi (Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan) ,  Saito Kentarao (Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan) ,  Edamatsu Keiichi (Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan) ,  Nakayama Masaaki (Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Osaka City University, Osaka 558-8585, Japan) ,  Ajiki Hiroshi (School of Science and Engineering, Tokyo Denki University, Saitama 350-0394, Japan)
資料名： Physical Review. B  (Physical Review. B)
巻： 97  号： 15  ページ： 155303  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 2469-9950  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 6から200nmの範囲のCuCl膜における双励起子緩和過程を研究した。緩和時間をデフェージング時間と寿命として測定した。双励起子緩和時間のユニークな厚さ依存性を観測し,100fsの短い時間スケールで超高速緩和時間を得たが,励起子寿命は厚さの増加と共に単調に減少した。表面ポラリトンに対する励起子-光子結合エネルギーを解析することにより,厚さの関数として双励起子緩和時間を理論的に計算した。計算依存性は観測された緩和時間を定性的に再現し,表面ポラリトン対への双励起子解離が主要な双励起子緩和過程の一つであることを示した。Copyright 2019 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結合エネルギー ,  緩和時間 ,  励起子分子 ,  光子 ,  *励起子 ,  表面ポラリトン ,  *緩和現象 ,  塩化銅 ,  励起子寿命 ,  厚み依存性
準シソーラス用語： 超高速 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： ポラリトン  (BM02140A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 半導体膜 ,  表面ポラリトン ,  解離 ,  励起子 ,  緩和