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J-GLOBAL ID：201902281942773999   整理番号：19A1331525

単一プラズマ源を用いた制御可能な電子密度勾配の発生【JST・京大機械翻訳】

Generation of a controllable electron density gradient using a single plasma source

著者 (6件)： Ling Yiming (CAS Key Laboratory of Geospace Environment, School of Earth and Space Science, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China) ,  Li Minchi (CAS Key Laboratory of Geospace Environment, School of Earth and Space Science, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China) ,  Liu Yu (CAS Key Laboratory of Geospace Environment, School of Earth and Space Science, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China) ,  Lei Jiuhou (CAS Key Laboratory of Geospace Environment, School of Earth and Space Science, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China) ,  Yuan Jingcheng (CAS Key Laboratory of Geospace Environment, School of Earth and Space Science, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China) ,  Cao Jinxiang (CAS Key Laboratory of Geospace Environment, School of Earth and Space Science, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China)
資料名： AIP Advances (Web)  (AIP Advances (Web))
巻： 9  号： 5  ページ： 055301-055301-7  発行年： 2019年 
JST資料番号： U7121A  ISSN： 2158-3226  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,制御可能な電子密度勾配の発生のための実験計画を,大面積酸化物被覆陰極と二つのステンレスメッシュを通して達成した。大面積酸化物被覆陰極を採用し,大面積,均一,高密度プラズマを作製し,これら二つの金属メッシュを特別に設計し,プラズマの密度とポテンシャルを制御した。独立した電子密度勾配と一様なプラズマポテンシャルを有する境界層を引き続いて発生させた。制御可能な電子密度勾配を達成することができ,付随する電場をこの設計を用いて同時に補償することができ,強いプラズマ密度勾配が存在するときプラズマ不安定性の励起を研究するために拡張できる可能性がある。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ポテンシャル ,  プラズマ不安定性 ,  *プラズマ ,  *プラズマ源 ,  境界層 ,  実験計画法 ,  ステンレス鋼 ,  電場
準シソーラス用語： プラズマ電位 ,  高密度プラズマ ,  大面積 ,  *密度勾配 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  その他の無機化合物の磁性  (BM06060P)

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマ源 ,  電子密度 ,  勾配