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J-GLOBAL ID：201902282209246472   整理番号：19A2422384

RFマグネトロンスパッタリングにより得た透明導電性NiO薄膜の特性に及ぼす成長温度の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of the Growth Temperature on the Properties of the Transparent and Conductive NiO Thin Films Obtained by RF Magnetron Sputtering

著者 (3件)： Ghimpu L. (Institute of Electronic Engineering and Nanotechnologies, Academy of Sciences of Moldova, Chisinau, Republic of Moldova) ,  Suman V. (Institute of Electronic Engineering and Nanotechnologies, Academy of Sciences of Moldova, Chisinau, Republic of Moldova) ,  Rusnac D. (Department of Physics and Engineering, Moldova State University, Chisinau, Republic of Moldova)
資料名： IFMBE Proceedings  (IFMBE Proceedings)
巻： 77  ページ： 291-295  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5069A  ISSN： 1680-0737  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 透明で導電性の酸化ニッケル(NiO)薄膜を,マグネトロン粉砕(RF)によりガラス支持体上に堆積した。NiO薄膜をX線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),X線検出器-分析器(EDX)を装備したSEM,UV-VIS分光法およびHall測定により調べた。XRDは,異なる基板温度で得られたNiO薄膜が組織化され,立方晶結晶構造を有することを明らかにした。SEM分析は粒状構造を持つ微結晶の形成を示した。NiO薄膜のEDXスペクトルは元素成分としてNiとOの存在を強調した。基板温度を50から450°Cに上げると,Hall測定により,自由キャリアの濃度と移動度の増加によりNiO薄層の抵抗率が減少することが分かった。Copyright 2020 Springer Nature Switzerland AG Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  X線回折分析 ,  ガラス ,  *マグネトロン ,  結晶構造 ,  *導電性 ,  X線回折 ,  *ニッケル ,  微結晶 ,  *薄膜 ,  酸化ニッケル ,  スペクトル ,  立方晶系 ,  電気抵抗率 ,  基板温度
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： RFマグネトロン粉砕 ,  NiO薄膜 ,  XRD回折 ,  EDX分析 ,  UV分光法 ,  電気的性質

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  導電性 ,  薄膜 ,  成長温度