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J-GLOBAL ID：201902284224644234   整理番号：19A1415868

室温でDCマグネトロンスパッタリングにより作製した疎水性ZnO薄膜の光学的および他の物理的性質【JST・京大機械翻訳】

Optical and other physical properties of hydrophobic ZnO thin films prepared by dc magnetron sputtering at room temperature

著者 (4件)： Malik Gaurav (Thin Film Laboratory, Institute Instrumentation Centre, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee 247667, India) ,  Jaiswal Jyoti (Thin Film Laboratory, Institute Instrumentation Centre, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee 247667, India) ,  Mourya Satyendra (Thin Film Laboratory, Institute Instrumentation Centre, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee 247667, India) ,  Chandra Ramesh (Thin Film Laboratory, Institute Instrumentation Centre, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee 247667, India)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 122  号： 14  ページ： 143105-143105-11  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 室温(RT)でガラス基板上にdcマグネトロンスパッタリングにより高度に秩序化した疎水性酸化亜鉛薄膜を合成した。膜の光学的および他の物理的性質に及ぼす蒸着パラメータの影響,およびそれらの微細構造と光学的性質の間の相関を決定した。膜は優先(002)配向,平均結晶子サイズ≦26nm,およびrms表面粗さ≦14nmを有していた。120°の水接触角は10°-20°以上の以前の測定を超えた。屈折率の分散をWemple-DiDomenical単一振動子モデルにより解析し,三次非線形光学パラメータをTichyとTichaの関係を用いて計算した。540nmにおける1.9686の屈折率は,2.0041のバルク値に近かった。RTで作製されたこれらの高度に秩序化された膜は小型光電子デバイスの有望な候補である。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 蒸着 ,  *物理的性質 ,  振動子 ,  *疎水性 ,  微細構造 ,  屈折率 ,  結晶粒径 ,  光学的性質
準シソーラス用語： 光電子デバイス ,  光学パラメータ ,  水接触角 ,  ガラス基板 ,  *DCマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 室温 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  疎水性 ,  ZnO薄膜 ,  光学 ,  物理的性質