パターン指向自己組織化による二重刷込高分子薄膜【JST・京大機械翻訳】

Grolman Danielle; Bandyopadhyay Diya; Al-Enizi Abdullah; Elzatahry Ahmed; Karim Alamgir

文献

J-GLOBAL ID：201902285871027659 整理番号：19A1408407

パターン指向自己組織化による二重刷込高分子薄膜【JST・京大機械翻訳】

Dual Imprinted Polymer Thin Films via Pattern Directed Self-Organization

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巻： 9 号： 24 ページ： 20928-20937 発行年： 2017年06月21日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

合成トポグラフパターン化膜と被覆は典型的には一つの側面で輪郭があるが,多くの性質の表面は同じ物体の異なる表面上に明確な組織を持っている。一般的な例は,チョウ翼またはハスの葉,タマネギ殻,および花の茎の内側対外側の上部および底部側である。自然に触発されて,二重(トップおよびボトム)チャネルパターン化高分子膜を作製した。この目的のために,著者らは最初に,紫外線-オゾン(UVO)曝露により,シリコン基板上のスタンプ化ポリ-(ジメチル-シロキサン)(PDMS)ナノパターンのオリゴマ残基をガラス(SiOx,シリカ)に変換することにより,セラミックラインチャネルレリーフ構造を作製する新しい作製法を開発した。これらのシリカパターン化基板はポリスチレン(PS)膜で被覆され,同一パターン化トップ閉込めソフトPDMSエラストマ膜内に閉じ込められている。サンドイッチ構造のアニーリングはPSを急速に鋳型化し,シリカパターン上のPSの脱ぬれ傾向と関連してトップPDMSパターンを充填した。膜厚hを変化させると,パターン高さよりも小さいものから,トップダウンとボトムアップパターン化閉込め表面の間の相対角度を変化させると,PSチャネルパターンにおける興味ある均一で不均一なディジタル化欠陥が生じ,欠陥のないチャネル領域も形成される。この二重パターン化高分子チャネルはトポグラフ的にインプリントされたモアレパターン(セキュリティ暗号化ホログラムから高感度歪ゲージへの応用範囲)への新しい作製ルートを提供し,それらの基本レーザ光回折特性を図示し,実空間AFMチャネルパターンのグラフィックシミュレーションと2D-FFTと比較した。従来の「幾何学的」と「干渉縞」モアレパターンは,二つの不整合光パターン化透過格子の重ね合わせにより機能するが,我々のトポグラフィーパターン格子は非常に明確であり,さらなる開発により,よりユニークなホログラフィック光学特性を可能にする可能性がある。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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固体デバイス製造技術一般

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