文献
J-GLOBAL ID:201902286058091476   整理番号:19A2411443

二酸化炭素による非晶質炭素の選択エッチングによる超清浄グラフェンの大面積合成【JST・京大機械翻訳】

Large-Area Synthesis of Superclean Graphene via Selective Etching of Amorphous Carbon with Carbon Dioxide
著者 (24件):
資料名:
巻: 131  号: 41  ページ: 14588-14593  発行年: 2019年 
JST資料番号: A0396A  ISSN: 0044-8249  CODEN: ANCEAD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
グラフェン表面で一般的に観察される汚染はその優れた特性に有害であり,その応用を強く妨げる。低コストな方法で大面積のクリーンなグラフェン膜を製造することは依然として大きな課題である。ここでは,固有の汚染,すなわち非晶質炭素をエッチングするためのCO_2の弱い酸化能力に依存して,99%の平均清浄度を有する超清浄グラフェンのメーターサイズの試料を合成するための容易で拡張可能な化学蒸着法を実証した。驚くべきことに,非晶質炭素の除去はグラフェン膜の移動における高分子残留物の著しい減少とグラフェンに基づくデバイスの作製を可能にし,グラフェンの電気的及び光学的性質を強く増強した。大面積超清浄グラフェンの容易な合成は,クリーンな表面が非常に必要なグラフェンの基礎研究と工業的応用の両方の道を開くであろう。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (4件):
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
その他の触媒 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る