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J-GLOBAL ID：201902286328021155   整理番号：19A2366610

焼結剤を含む有機溶媒への浸漬によるトリ-n-オクチルホスフィン-オキシド被覆銀ナノ粒子ペーストの室温焼結【JST・京大機械翻訳】

Room-Temperature Sintering of Tri-n-Octylphosphine-Oxide-Capped Silver Nanoparticle Paste by Dipping into an Organic Solvent Containing a Sintering Agent

著者 (6件)： Okada Soichiro (Department of Applied Chemistry, Faculty of Systems Engineering, Wakayama University, Japan) ,  Nakahara Yoshio (Department of Applied Chemistry, Faculty of Systems Engineering, Wakayama University, Japan) ,  Watanabe Mitsuru (Morinomiya Center, Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology, Japan) ,  Tamai Toshiyuki (Morinomiya Center, Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology, Japan) ,  Kobayashi Yasuyuki (Morinomiya Center, Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology, Japan) ,  Yajima Setsuko (Department of Applied Chemistry, Faculty of Systems Engineering, Wakayama University, Japan)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 123  号： 23  ページ： 14118-14125  発行年： 2019年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 空気雰囲気下での銀ナノ粒子(AgNP)ペーストの室温(RT)焼結のための新しい方法を開発した。配位子交換法により,トリ-n-オクチルホスフィンオキシド(TOPO)とTOPOキャップAg NPsからなる非水性ペーストを調製した。次に,ペーストをPET基板上にキャストし,焼結剤を含む有機溶媒に浸漬することによりRTで焼結した。RT焼結を最適化するために,焼結剤,浸漬時間,浸漬溶媒,Ag NPの配位子などの実験条件を調べた。本研究で得たAg薄膜の電気抵抗率は約10~5Ωmで,これは熱焼結により作製したAg薄膜のそれに匹敵した。X線光電子分光法とX線回折により特性化したAg薄膜の化学組成は純粋なAg膜の形成を示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *銀 ,  *有機溶媒 ,  *焼結 ,  *酸化物 ,  配位子交換 ,  *被覆 ,  *ペースト ,  最適化 ,  キャラクタリゼーション ,  X線回折 ,  電気抵抗率 ,  化学組成 ,  薄膜 ,  *浸漬
準シソーラス用語： *銀ナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (8件)： 焼結 ,  有機溶媒 ,  浸漬 ,  トリ ,  オキシド ,  銀ナノ粒子 ,  ペースト ,  室温