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J-GLOBAL ID：201902286492586567   整理番号：19A2302503

Cu(111)上のVOPcの構造 V=O点は上昇するか,あるいはそれらの両方か【JST・京大機械翻訳】

The Structure of VOPc on Cu(111): Does V=O Point Up, or Down, or Both?

著者 (15件)： Blowey P.J. (Department of Physics, University of Warwick) ,  Blowey P.J. (Diamond Light Source, U.K.) ,  Maurer R.J. (Department of Chemistry, University of Warwick) ,  Rochford L.A. (Department of Chemistry, University of Warwick) ,  Rochford L.A. (School of Chemistry, University of Birmingham, U.K.) ,  Duncan D.A. (Diamond Light Source, U.K.) ,  Duncan D.A. (Physik-Department E20, Technische Universitaet Muenchen, Germany) ,  Kang J.-H. (Department of Nano and Electronic Physics, Kookmin University, Korea) ,  Warr D.A. (Department of Chemistry, University of Warwick) ,  Ramadan A.J. (Clarendon Laboratory, Department of Physics, University of Oxford, U.K.) ,  Lee T.-L. (Diamond Light Source, U.K.) ,  Thakur P.K. (Diamond Light Source, U.K.) ,  Costantini G. (Department of Chemistry, University of Warwick) ,  Reuter K. (Department Chemie, Technische Universitaet Muenchen, Germany) ,  Woodruff D.P. (Department of Physics, University of Warwick)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 123  号： 13  ページ： 8101-8111  発行年： 2019年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 飽和分子層の約半分の被覆率でCu(111)上に吸着した非平面フタロシアニン,バナジルフタロシアニン(VOPc)の局所構造を,垂直入射X線定在波(NIXSW),走査エネルギーモード光電子回折(PhD),および密度汎関数理論(DFT)の組み合わせにより調べ,走査トンネル顕微鏡(STM)により補完した。NIXSWデータの定性的評価は,分子の「アップ」と「ダウン」の両方の配向(V=Oを指摘し,表面に向かう)が表面上に共存しなければならないことを明確に示した。O 1s PhDは分子配向に関して決定的でないことを証明した。二つの異なる分散補正スキームを用いたDFT計算は,二つの異なる分子配向の等しい共占有に対するNIXSW構造結果と良好な定量的一致を示し,長距離分散力を扱うための多くの体分散(MBD)法を明確に支持した。最低被覆率での異なる配向分子の計算相対吸着エネルギーは,「アップ」配向に対して強い優先性を示したが,より高い局所被覆率では,このエネルギー差は減少し,混合配向相は純粋な「アップ」配向相とほぼエネルギー的に等価であった。二つの方位に対するSTMトポグラフのDFTに基づくTersoff-Hamanシミュレーションは,このような画像が分子配向に対する信頼できるガイドを与える程度に光を当てる。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 密度汎関数法 ,  定在波 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  *被覆率 ,  エネルギーギャップ ,  画像 ,  計算機シミュレーション ,  シミュレーション ,  光電子回折 ,  走査 ,  吸着エネルギー
準シソーラス用語： 分散力 ,  長距離 ,  定性的評価 ,  局所構造 ,  *銅(111) , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  金属の表面構造  (BK15020P)

タイトルに関連する用語 (1件)： Cu