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J-GLOBAL ID：201902286612573575   整理番号：19A1810770

蒸発誘起自己集合による単一ディジットナノメートル規模シリカナノ粒子の形成【JST・京大機械翻訳】

Formation of Single-Digit Nanometer Scale Silica Nanoparticles by Evaporation-Induced Self-Assembly

著者 (7件)： Sakamoto Shigeru (Department of Applied Chemistry, Waseda University, Japan) ,  Yoshikawa Masashi (Department of Applied Chemistry, Waseda University, Japan) ,  Ozawa Kota (Department of Applied Chemistry, Waseda University, Japan) ,  Kuroda Yoshiyuki (Waseda Institute for Advanced Study, Waseda University, Japan) ,  Shimojima Atsushi (Department of Applied Chemistry, Waseda University, Japan) ,  Kuroda Kazuyuki (Department of Applied Chemistry, Waseda University, Japan) ,  Kuroda Kazuyuki (Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology, Waseda University, Japan)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 34  号： 4  ページ： 1711-1717  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい機能性材料を創出するために,ナノ医学,光学,触媒,およびセンサなどの学際的分野における単桁ナノスケール粒子に対する新しい要求がある。ここでは,通常逆ミセルを形成するケイ酸塩種と四級トリアルキルメチルアンモニウム界面活性剤の蒸発誘起自己集合により,サイズ3nm未満のシリカナノ粒子を調製する新しいルートを報告する。溶媒蒸発は,界面活性剤メソ相の親水性領域内のケイ酸塩種の局所濃度増加と同時重縮合を誘起する。シリカ-界面活性剤メソ構造中の極端に小さいシリカナノ粒子はメソ構造を破壊することにより有機溶媒中に安定に分散でき,従来の逆ミセル法を用いたシリカナノ粒子の調製と明らかに対照的である。形成されたシリカナノ粒子の表面化学修飾はトリメチルシリル化により容易に行われた。疎水性/親水性比がメソ構造中の球状シリカ-界面活性剤ドメインの曲率と直径を決定するので,粒子サイズはシリカ源に対する界面活性剤の比を変えることにより調整可能である。この方法の汎用性を非常に小さいチタニアナノ粒子の作製により実証した。これらの知見は,溶液中の核の生成と成長に基づく従来の方法が,高度に制御されたサイズを持つそのようなナノ粒子を生成できないので,単桁ナノスケールでの酸化物ナノ粒子の設計可能性を増加させるであろう。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *自己集合 ,  ケイ酸塩 ,  有機溶媒 ,  疎水性 ,  逆ミセル ,  *蒸発 ,  *二酸化ケイ素 ,  重縮合 ,  *ナノ粒子 ,  界面活性剤 ,  メソ相
準シソーラス用語： 二酸化チタン ,  メソ構造 ,  ナノスケール ,  *シリカナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  界面化学一般  (CB12010J) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  非金属化合物  (CD01070R)

タイトルに関連する用語 (6件)： 蒸発 ,  誘起 ,  自己集合 ,  ディジット ,  ナノメートル規模 ,  シリカナノ粒子