文献

J-GLOBAL ID：201902286653340383   整理番号：19A2249476

直書き技術に基づくマイクロナノマスク作製技術に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Research progress of micro-nano mask fabrication technology based on direct writing technique

著者 (3件)： Zhang Cheng (浙江工業大学特種装備制造与先進加工技術教育部重点実験室,浙江杭州310014;清華大学精密測試技術及儀器国家重点実験室,北京100084) ,  Wen Donghui (浙江工業大学特種装備制造与先進加工技術教育部重点実験室,浙江杭州,310014) ,  Yang Xing (清華大学精密測試技術及儀器国家重点実験室,北京,100084)
資料名： Chuanganqi yu Wei Xitong  (Chuanganqi yu Wei Xitong)
巻： 38  号： 7  ページ： 1-4,9  発行年： 2019年 
JST資料番号： C3686A  ISSN： 1000-9787  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： マイクロナノマスクの作製は,エッチング,堆積,および改質などのマイクロナノ加工の前の主要プロセスであり,マイクロナノ加工におけるキーステップと基礎である。高品質、柔軟性、低コスト、高効率のマスク作製はマイクロ/ナノエレクトロメカニカルシステム(MEMS/NEMS)、マイクロナノテクノロジー、マイクロ/ナノ電子チップ、半導体デバイスなどの分野での科学研究と生産に非常に重要な意義がある。現在、直書き技術はマスクとプリントマスクに依存しないマスクパターン製造技術であり、その製作プロセスは簡単で、高いマスク製作精度と柔軟性があり、マイクロナノマスク製作の重要な発展方向となっている。本論文では、国内外における各種主要な直書き技術に基づくマイクロナノマスク製作技術について概説し、その技術特徴をまとめ、その発展傾向を展望した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 生産工程 ,  ナノテクノロジー ,  エッチング ,  柔軟性 ,  半導体素子 ,  生産技術 ,  *ナノメータ加工 ,  MEMS
準シソーラス用語： マスクパターン ,  NEMS ,  高効率 ,  ローコスト ,  高品質 ,  *作製技術 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 作製技術 ,  研究