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J-GLOBAL ID：201902287055802210   整理番号：19A0877003

Si(100)上の化学溶液堆積により成長させたMn_1.56Co_0.96Ni_0.48O_4薄膜の結晶化依存構造および光学特性【JST・京大機械翻訳】

Crystallization-dependent structural and optical properties of Mn_1.56Co_0.96Ni_0.48O₄ thin films grown by chemical solution deposition on Si (100)

著者 (5件)： Zhou W. (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Shanghai, China) ,  Wu C. Y. (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Shanghai, China) ,  Yin Y. M. (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Shanghai, China) ,  Ma W. L. (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Shanghai, China) ,  Huang Z. M. (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Shanghai, China)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 125  号： 1  ページ： 1-8  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Mn_1_56Co_0.96Ni_0.48O_4(MCN)薄膜を,450°Cと600°Cの種々のポストアニーリング温度の下でSi(100)基板上に蒸着した。X線回折(XRD)とSEMによって同定されたように,600°Cと450°Cの下でアニールされた膜の間に結晶性の著しい違いが観察された。結晶性および非結晶性のMCN薄膜の光学的性質を比較し,解析するために,分光偏光解析スペクトル,赤外透過および反射スペクトルを測定した。偏光解析測定により,可視から近赤外領域(300~1000nm)のn,kスペクトルを実証し,結晶化試料に対して1.6eV,2.6eV及び3.5eV以上に位置する3つの吸収ピークを示した。これはそれぞれO2-(2p)及びMn4+(3d)イオン,O2-(2p)イオン,及びO2-(2p)及びMn3+(3d)イオンを含む電荷移動(CT)遷移に対応する。近赤外(1.3μm)-遠赤外(25μm)範囲における透過率と反射スペクトルも調べた。光定数を得るために遠赤外(400cm~-1~800cm-1)における結合透過と反射スペクトルを直接解析するために二振動子モデルを実行した。ここでは,結晶化結晶と非結晶性MCN膜のn,k値の差を初めて調べた。Copyright 2019 Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 赤外線 ,  結晶度 ,  偏光解析法 ,  遠赤外線 ,  非晶質 ,  *薄膜 ,  基板 ,  スペクトル ,  *結晶 ,  反射スペクトル ,  近赤外線 ,  *結晶化 ,  透過率 ,  X線回折
準シソーラス用語： *シリコン(100) , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  化学溶液堆積 ,  成長 ,  薄膜 ,  結晶化 ,  光学特性