文献

J-GLOBAL ID：201902287297238203   整理番号：19A1800771

高速AFMを用いた銅電析初期過程における電位依存性の研究

著者 (3件)： 吉岡大騎 (北大 大学院) ,  松島永佳 (北大 大学院) ,  上田幹人 (北大 大学院)
資料名： 電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 86th  ページ： ROMBUNNO.1L05  発行年： 2019年03月13日 
JST資料番号： Y0048B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.目的 現在,電析法による銅めっきの細線加工やエピタキシャル制御技術は,マイクロマシン技術(MEMS)など様々なエレクトロニクスデバイスに応用されている.また,ナノテクノロジーの進歩に伴い,めっき膜の表面構造をナノレベルで高精度に制御する...【本文一部表示】

シソーラス用語： *原子間力顕微鏡 ,  *銅 ,  *電着 ,  *依存性 ,  *電位 ,  *基板 ,  金 ,  硫酸銅 ,  その場観察 ,  ボルタンメトリー ,  ボルタモグラム ,  *金基板 ,  *電位依存性

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (7件)： AFM ,  銅 ,  電析 ,  初期 ,  過程 ,  電位依存性 ,  研究