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J-GLOBAL ID：201902287547574009   整理番号：19A2739342

屋外暴露された高分子の劣化機構における環境依存性に関する近年の動向

著者 (2件)： 北垣亮馬 (北大) ,  渡辺真 (スガウェザリング技術振興財団)
資料名： スガウェザリング学術講演会要旨  (スガウェザリング学術講演会)
巻： 69th-70th  ページ： 19-35  発行年： 2019年10月24日 
JST資料番号： L3292A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *曝露 ,  *機構 ,  劣化 ,  光劣化 ,  温度依存性 ,  依存性 ,  放射強度 ,  ポリカーボネート ,  *高分子
準シソーラス用語： *屋外曝露 ,  *劣化機構 ,  環境劣化 ,  紫外線劣化 ,  湿度依存性 ,  紫外線強度

分類 (2件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  抵抗性  (YH02050K)

タイトルに関連する用語 (4件)： 屋外暴露 ,  高分子 ,  環境依存性 ,  動向