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J-GLOBAL ID：201902287877371130   整理番号：19A1309409

bruggeman均質化形式に基づく方法によるアニールした銅膜の光学分析:堆積角とアニーリング温度の影響【JST・京大機械翻訳】

Optical analyses of annealed copper films by a method based on Bruggeman homogenization formalism: Influence of deposition angle and annealing temperature

著者 (4件)： Farid-Shayegan Fahimeh (Department of Physics, Faculty of Science, Science and research Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran) ,  Siabi-Garjan Araz (Department of Advanced Technologies, University of Mohaghegh Ardabili, Namin, Iran) ,  Siabi-Garjan Araz (Department of Engineering Sciences, Sabalan University of Advanced Technologies (SUAT), Namin, Iran) ,  Savaloni Hadi (School of Physics, College of Science, University of Tehran, North-Kargar Street, Tehran, Iran)
資料名： Optik  (Optik)
巻： 183  ページ： 277-283  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0251A  ISSN： 0030-4026  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 通常と斜めの角度蒸着を用いて,異なる温度(100,180と350°C)で窒素ガスの流れでアニールした銅薄膜を作製した。これらの試料の光学応答はs偏光とp偏光の両方を用いて垂直入射角度付近で得られた。試料の電界放出走査電子顕微鏡(FESEM)分析は試料の物理的構造と形態を提供した。Bruggeman均質化定式化計算を用いて反射スペクトルを予測する方法を提案し,実験結果と比較した。このタイプの研究における最も効果的な因子は,膜厚,材料介在物(ボイド率),および銅層の上部に形成された窒化銅層の厚さ比が,理論的光学スペクトルと実験結果との比較から推定された銅層の厚さであることが分かった。結果は,後者の比率がアニーリング温度と共に増加し,350°Cの最高温度が試料の光学スペクトルの劇的な変化を引き起こすことを示した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 薄膜 ,  偏光 ,  薄膜成長 ,  反射スペクトル ,  定式化 ,  空隙率 ,  最高気温 ,  蒸着 ,  *銅 ,  焼なまし ,  介在物 ,  *均質化 ,  膜厚
準シソーラス用語： 電界放出型走査電子顕微鏡 ,  垂直入射 ,  *アニーリング温度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 斜め角堆積 ,  bruggeman均質化 ,  光学スペクトル ,  Cu薄膜 ,  焼なましプロセス ,  窒化銅

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 均質化 ,  形式 ,  アニール ,  銅 ,  堆積 ,  アニーリング温度