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J-GLOBAL ID:201902288492431892   整理番号:19A0659431

CH_4のレニウム(III)錯体への酸化的付加に及ぼす補助配位子(A)の影響 MP_2,CCSD(T)およびMCSCF法を用いたA=B,Al,Ch,SiH,N,およびP【JST・京大機械翻訳】

Effect of Ancillary Ligands (A) on Oxidative Addition of CH4 to Rhenium(III) Complexes: A = B, Al, CH, SiH, N, and P Using MP2, CCSD(T), and MCSCF Methods
著者 (2件):
資料名:
巻: 121  号: 28  ページ: 5341-5351  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0334B  ISSN: 1089-5639  CODEN: JPCAFH  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Re-(OC_2H_4)_3A(A=補助配位子,したがって金属と相互作用する)に対するメタンの酸化的付加(OA)の計算研究を実施した。補助配位子の選択は,a=B又はAl(Lewis酸),CH又はSiH(電子精密),N(σドナー)及びP(σドナー/π酸)の電子特性に基づいて行った。本研究の主な目的は,Aの変化が反応物d4-Re-(III)錯体の構造的および電子的性質にどのように影響するかを理解することであり,それは最終的にOAの速度論と熱力学を調整できる。MP2計算から得られた結果は,CH_4からRe-(OC_2H_4)_3AのOAに対して,補助配位子の選択のためのΔG‡の順序は,B>Al>SiH>CH>N>Pであることを明らかにした。CCSD-(T)で得られたΔG~‡の単一点計算はMP2法で計算されたものと非常に良く一致した。MCSCF計算は,酸化的付加遷移状態が単一電子配置によって良く記述され,幾何学最適化とΔG‡決定のために用いたMP2アプローチに更なる信頼性を与え,遷移状態がd2-Re-(V)生成物よりd4-Re-(III)反応物により電子的に類似していることを示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (5件):
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原子とラジカルの反応  ,  イオンと分子の衝突・散乱  ,  分子間相互作用  ,  物理化学一般その他  ,  分子の電子構造 
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