ソフトせん断による溶媒蒸気アニーリング中のブロック重合体薄膜におけるドメイン整列の動力学  その場小角中性子散乱研究【JST・京大機械翻訳】

Shelton Cameron K.; Jones Ronald L.; Epps Thomas H. III; Epps Thomas H. III

文献

J-GLOBAL ID：201902289850283453 整理番号：19A0656727

ソフトせん断による溶媒蒸気アニーリング中のブロック重合体薄膜におけるドメイン整列の動力学その場小角中性子散乱研究【JST・京大機械翻訳】

Kinetics of Domain Alignment in Block Polymer Thin Films during Solvent Vapor Annealing with Soft Shear: An in Situ Small-Angle Neutron Scattering Investigation

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資料名：
巻： 50 号： 14 ページ： 5367-5376 発行年： 2017年
JST資料番号： B0952A ISSN： 0024-9297 CODEN： MAMOBX 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

小角中性子散乱(SANS)を用いて,ソフトせん断(SVA-SS)による溶媒蒸気アニーリングを受けたブロック高分子(BP)薄膜における無秩序状態と秩序状態の間の速度論的経路を同定し,大規模ナノ構造秩序化と整列の最適化を可能にした。ポリ-(重水素化スチレン-b-イソプレン-b-重水素化スチレン)(DSIDs)膜(約200nm厚)における重水素化の賢明な組込みは,より厚い(非重水素化)ポリジメチルシロキサン(PDMS)パッド(≒500μm厚)からの拡散散乱寄与を克服するための十分なコントラストを提供し,膨潤,脱膨潤,せん断力に対するBPナノ構造応答のその場追跡を可能にした。著者らは,DSIDsとPDMSがSVA-SS中に膨潤すると,ピン止め膜を横切るPDMSの横方向膨張が,溶媒膨潤系における鎖混合とナノ構造無秩序化を促進するせん断力を誘起することを決定した。溶媒が膜(脱膨潤)から除去されると,より小さい結晶粒が,乾燥前面の方向における配向に対するより低いエネルギー障壁を持つようになり始め,ナノ構造アラインメントを促進した。膨潤比,PDMS弾性率,およびデスウェル速度のようなSVA-SSパラメータの変化は,SANS研究を通して容易に捕捉された長さスケールにわたって秩序化速度を変化させ,ドメイン方向性を影響した。大規模で制御可能なせん断力を生成するSVA-SSパラメータを利用することにより,SVA-SSにおける傾斜厚みPDMSパッドを用いた直接BP薄膜自己集合に対するロバストで「ハンドオフ」アプローチも開発した。この提案された技術は,ナノテクノロジー研究と産業応用の両方に対して,巨視的領域にわたって費用対効果の高い微視的パターンを迅速かつ確実に生成するために適用できる。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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高分子固体の構造と形態学

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ソフトせん断による溶媒蒸気アニーリング中のブロック重合体薄膜におけるドメイン整列の動力学 その場小角中性子散乱研究【JST・京大機械翻訳】

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