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J-GLOBAL ID：201902290009398286   整理番号：19A1916637

フェニルホスフィン酸の溶液堆積はアニーリングを伴わないTiO_2(110)上に高度に秩序化した共有結合単分子層を導く【JST・京大機械翻訳】

Solution Deposition of Phenylphosphinic Acid Leads to Highly Ordered, Covalently Bound Monolayers on TiO₂ (110) Without Annealing

著者 (3件)： Skibinski Erik S. (Department of Chemistry and Chemical Biology, Cornell University, New York, United States) ,  DeBenedetti William J. I. (Department of Chemistry and Chemical Biology, Cornell University, New York, United States) ,  Hines Melissa A. (Department of Chemistry and Chemical Biology, Cornell University, New York, United States)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 26  ページ： 14213-14221  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶液堆積したホスホン酸,O=P-(OH)_2Rを用いて,有機電界効果トランジスタからインプラント上の生体適合性コーティングまでの応用のための種々の金属酸化物表面への新しい機能性を付与した。興味深いことに,堆積したままの単分子層は容易にリンスされ,長い低温熱アニール(例えば120°Cで18時間)後にのみ強固で強く接着した。この熱処理の必要性は,堆積したままの単分子層の結合の性質に関する疑問を提起した。それは単に物理吸着され,共有結合のための熱処理を必要とする。単分子層形成の第一段階を理解するために,プロトタイプの溶液堆積ホスフィン酸,O=PH-(OH)-Rの反応性と分子結合幾何学を,プロトタイプの金属酸化物表面ルチル(110)上で研究した。溶液堆積により,橋かけ二座配位構造に共有結合した理想的で高密度のフェニルホスフィン酸塩単分子層が生成することを示した。3つのほぼ直交した分子振動,P-H伸縮振動および対称および反対称OPO伸縮振動は,吸着単分子層の三次元構造および結合の明白な特徴を提供した。走査トンネル顕微鏡は長距離秩序と分子間立体配座に関する情報を提供した。そして,X線光電子放出分光法は被覆率定量を提供した。それらの共有結合二座付着にもかかわらず,対応するカルボン酸よりも有意に高い結合エネルギーにもかかわらず,H_2Oリンスはリン酸塩単分子層の大部分を除去し,加水分解安定性は共有結合のみによるものではないことを示した。H_2Oリンスはリン酸塩単分子層の約25%を対応するホスホン酸塩に酸化し,H_2O洗浄に対していくらか抵抗性のある種を生成した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 対称性 ,  被覆 ,  プロトタイプ ,  *共有結合 ,  付着 ,  加水分解 ,  *焼なまし ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  ホスホン酸 ,  立体配座 ,  リン酸塩 ,  ロバスト性 ,  *単分子層 ,  ルチル
準シソーラス用語： リンス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (7件)： フェニルホスフィン酸 ,  溶液 ,  堆積 ,  アニーリング ,  秩序化 ,  共有結合 ,  単分子層