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J-GLOBAL ID：201902290132396241   整理番号：19A2018769

キセノン/ヘリウムガスパフターゲットに基づくレーザプラズマ源を用いた極端紫外線ホログラフィー【JST・京大機械翻訳】

Extreme ultraviolet holography using a laser-plasma source based on xenon/helium gas puff target

著者 (5件)： Wachulak P. (Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego Str., 00-908 Warsaw, Poland) ,  Sarzynski A. (Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego Str., 00-908 Warsaw, Poland) ,  Bartnik A. (Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego Str., 00-908 Warsaw, Poland) ,  Fok T. (Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego Str., 00-908 Warsaw, Poland) ,  Fiedorowicz H. (Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego Str., 00-908 Warsaw, Poland)
資料名： Laser and Particle Beams  (Laser and Particle Beams)
巻： 36  号： 1  ページ： 8-14  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0874A  ISSN： 0263-0346  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,コヒーレントイメージングにおいて,二重ストリームガスパフターゲットに基づいて,レーザプラズマ源からのキセノンプラズマからの部分空間コヒーレント極端紫外(EUV)放射の応用を示した。13.5±0.5nmの波長での放射を用いて,Gabor型ホログラムを記録した。位相検索技術に基づく反復アルゴリズムを開発し,試験物体の再構成EUV画像から双晶画像を除去するために使用した。コンパクトなレーザプラズマ源からの部分コヒーレント放射を用いて,本質的にインコヒーレントな二重ストリームガスパフターゲットに基づいて,Gabor EUVホログラフィーを成功裏に実証した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ホログラム ,  コヒーレンス ,  *ホログラフィー ,  *キセノン ,  波長 ,  *レーザプラズマ ,  画像処理 ,  *極端紫外線 ,  双晶 ,  再構成 ,  画像 ,  *プラズマ ,  位相
準シソーラス用語： *ガスパフ ,  反復アルゴリズム , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ダブルストリームガスパフターゲット ,  極端紫外線 ,  Gaborホログラフィー

分類 (1件)： プラズマ中の電磁波  (BJ02032F)

タイトルに関連する用語 (5件)： キセノン ,  レーザ ,  プラズマ源 ,  極端紫外線 ,  ホログラフィー