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J-GLOBAL ID：201902290320365098   整理番号：19A1094142

CVD法によるNi箔及びPt/MgO基板上へのグラフェンの作製

Preparation of Graphene on Ni Foils and Pt/MgO Substrates by Using CVD Method

著者 (4件)： 中村嘉孝 (八戸工業高等専門学校) ,  中村健人 (八戸工業高等専門学校電気情報工学科 学生) ,  田中盛治 (八戸工業高等専門学校電気情報工学科 学生) ,  七崎翔平 (八戸工業高等専門学校電気情報工学科 学生)
資料名： 八戸工業高等専門学校紀要(Web)  (Research Reports National Institute of Technology, Hachinohe College (Web))
巻： 51  ページ： 91-93(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： U1572A  ISSN： 2433-2003  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： CVD法を用いて,Ni箔多結晶基板およびPtバッファ層を有するMgO単結晶基板上にグラフェンを調製した。Ptバッファ層は,RFマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した。Ni箔基板上に成長させた場合,欠陥のない単層グラフェンを得た。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *ニッケル ,  金属箔 ,  *酸化マグネシウム ,  *グラフェン ,  基板 ,  スペクトルシフト ,  *格子欠陥 ,  *白金触媒 ,  バッファ層 ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング
準シソーラス用語： *CVD法 ,  Ramanシフト ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  結晶欠陥 ,  単結晶基板

著者キーワード (4件)： グラフェン ,  Ni箔 ,  Ptバッファ層 ,  MgO単結晶基板

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： CVD法 ,  Ni ,  箔 ,  Pt ,  MgO ,  グラフェン ,  作製