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J-GLOBAL ID:201902290999144249   整理番号:19A1868389

金界面ナフィオン薄膜の界面構造とプロトン輸送特性

著者 (3件):
資料名:
巻: 99th  ページ: ROMBUNNO.2B3-10  発行年: 2019年03月01日 
JST資料番号: S0493B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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本研究では金表面に成膜したナフィオン薄膜(数十~数百nm)の界面構造とプロトン輸送特性の評価を行い,非金属基板上や白金表面に成膜したナフィオン薄膜と比較することで,ナフィオン薄膜の界面構造およびプロトン輸送特性の膜厚依存性および基板依存性を調査した。その結果,非金属基板上のナフィオン薄膜と比較して金表面上のナフィオン薄膜は膜厚が低下することで異なる界面構造を示し,膜厚の低下に伴うプロトン伝導性の低下が抑制されることが確認された。(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
有機化合物の薄膜  ,  高分子固体の物理的性質 

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