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J-GLOBAL ID：201902291328942538   整理番号：19A0801103

X線を用いた残留応力測定へのモノリシックSOI画素検出器の応用に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Study on application of a monolithic SOI pixel detector to residual stress measurement using X-rays

著者 (7件)： Sasaki Toshihiko (Kanazawa University, Kakuma-machi, Kanazawa 920-1192, Japan) ,  Mitsui Shingo (Kanazawa University, Kakuma-machi, Kanazawa 920-1192, Japan) ,  Shinya Masayoshi (Kanazawa University, Kakuma-machi, Kanazawa 920-1192, Japan) ,  Yanagi Kayoko (Kanazawa University, Kakuma-machi, Kanazawa 920-1192, Japan) ,  Nishimura Ryutaro (Kanazawa University, Kakuma-machi, Kanazawa 920-1192, Japan) ,  Miyoshi Toshinobu (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba 305-0801, Japan) ,  Arai Yasuo (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba 305-0801, Japan)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A. Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A. Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment)
巻： 924  ページ： 452-456  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0208B  ISSN： 0168-9002  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,絶縁体上のシリコン(SOI)画素検出器を鋼のX線応力測定に適用した。2つの積分型SOI画素センサチップINTPIX4を用いてDebye-Scherrerリングを測定した。応力はリングのデータ解析とcos(α)法を用いて決定した。実用化のためのシステムの妥当性を調べるために,溶接で製造した鋼試料についていくつかの点で応力測定を行った。試料は,溶接ビード上の粗粒子,酸化物膜で覆われた結晶粒,および結晶学的組織化結晶粒のような結晶学的条件を持つ種々の表面から成っていた。SOI画素検出器を用いて得られた結果を,画像板を用いて得られた結果と比較した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線応力測定 ,  *画素 ,  積分 ,  絶縁体 ,  結晶学 ,  データ解析 ,  溶接 ,  酸化膜 ,  鋼 ,  結晶粒 ,  *X線 ,  *応力測定 ,  *検出器 ,  *残留応力
準シソーラス用語： センサチップ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： SOI画素検出器 ,  X線応力測定 ,  回折リング ,  残留応力 ,  COS(α)法 ,  溶接

分類 (2件)： 放射線検出・検出器  (AD08020J) ,  素粒子・核物理実験技術一般  (BE01010F)

タイトルに関連する用語 (8件)： X線 ,  残留 ,  応力測定 ,  SOI ,  画素 ,  検出器 ,  応用 ,  研究