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J-GLOBAL ID：201902294208313674   整理番号：19A0098712

ポテンシャルエネルギー面を用いたAFMにおける接着過程の先端安定性の解析: 安定性対散逸

Analysis of Tip Stability in Adhesion Process in AFM Using Potential Energy Surface: Stability Versus Dissipation

著者 (3件)： Senda Yasuhiro (Department of Applied Science, Yamaguchi University) ,  Blomqvist Janne (COMP Centre of Excellence, Department of Applied Physics, Aalto University) ,  Nieminen Risto (COMP Centre of Excellence, Department of Applied Physics, Aalto University)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 16  ページ： 132-136(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポテンシャルエネルギー面(PES)を用いた非接触原子間力顕微鏡(AFM)の接着過程におけるチップの原子配置の安定性を解析した。接着過程における再構成と不可逆変化の典型的なケースとして,チップの原子配置の2つのタイプに対するPESを計算した。表面との原子接触後のチップの安定性を,計算したPESに基づいて説明したが,これはチップと表面の間の原子結合の強度によって影響を受ける。AFMに対する計算モデルから,不安定な先端が安定な先端に対するそれと比較して大きなエネルギー散逸をもたらすことを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *原子間力顕微鏡 ,  接着 ,  *プローブ ,  配置 ,  *安定性解析 ,  再構成 ,  不可逆性 ,  計算モデル ,  エネルギー散逸 ,  計算機シミュレーション
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  *AFMチップ ,  結合強度 ,  原子配置 ,  *接触解析 ,  *非接触型原子間力顕微鏡

著者キーワード (4件)： コンピュータシミュレーション ,  原子間力顕微鏡 ,  接着 ,  エネルギー散逸

分類 (2件)： 光学的測定とその装置一般  (BD07010S) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

引用文献 (30件)：

• [1] S. Morita, R. Wiesendanger, and E. Meyer (Eds.), Noncontact Atomic Force Microscopy (Springer, Berlin, Heidelberg, 2002). https://doi.org/10.1007/978-3-642-56019-4
• [2] B. Anczykowski, B. Gotsmann, H. Fuchs, J. P. Cleveland, and V. B. Elings, Appl. Surf. Sci. 140, 376 (1999). https://doi.org/10.1016/S0169-4332(98)00558-3
• [3] R. Bennewitz, A. S. Foster, L. N. Kantorovich, M. Bammerlin, C. Loppacher, S. Schär, M. Guggisberg, E. Meyer, and A. L. Shluger, Phys. Rev. B 62, 2074 (2000). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.62.2074
• [4] C. Loppacher, R. Bennewitz, O. Pfeiffer, M. Guggisberg, M. Bammerlin, S. Schär, V. Barwich, A. Baratoff, and E. Meyer, Phys. Rev. B 62, 13674 (2000). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.62.13674
• [5] T. Fukuma, K. Umeda, K. Kobayashi, H. Yamada, and K. Matsushige, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 4903 (2002). https://doi.org/10.1143/JJAP.41.4903

タイトルに関連する用語 (6件)： ポテンシャルエネルギー面 ,  AFM ,  接着過程 ,  安定性 ,  解析 ,  散逸