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J-GLOBAL ID：201902294486183334   整理番号：19A1522202

光パルス照射による高速磁気制御

Ultrafast control of magnetic interactions by optical pulses

著者 (1件)： 松原正和 (東北大 大学院理学研究科)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 88  号： 7  ページ： 475-479  発行年： 2019年07月10日 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 強磁性半導体EuOに不純物GdをドープしたEu_1-xGd_xO薄膜に対し超短光パルスを照射することで,電子スピン間に働く磁気相互作用の大きさを高速に制御することに成功した.Gd濃度が低い場合は,光パルス照射によって磁気相互作用が増大するのに対し,Gd濃度が高い場合には,逆に,減少する結果となった.これらの振る舞いは,光パルスの照射によるEuOのキャリヤ密度の変化や不純物によるキャリヤの散乱に伴う磁気相互作用の変調を反映している.本原理を用いると,光による磁気相互作用の高速制御が可能となり,将来の超高速光スピントロニクスへの応用が期待される.(著者抄録)

シソーラス用語： *光パルス ,  *光照射 ,  *制御 ,  *強磁性半導体 ,  *酸化ユウロピウム ,  ガドリニウム ,  ドーピング ,  電子スピン ,  相互作用 ,  *スピントロニクス ,  磁気相互作用
準シソーラス用語： *磁気制御 ,  *スピントロニクス素子

分類 (2件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  磁電デバイス  (NC03100X)

引用文献 (23件)：

• S.A. Wolf, D.D. Awschalom, R.A. Buhrman, J.M. Daughton, S. von Molnár, M.L. Roukes, A.Y. Chtchelkanova, and D.M. Treger: Science 294, 1488 (2001).
• A. Kirilyuk, A.V. Kimel, and T. Rasing: Rev. Mod. Phys. 82, 2731 (2010).
• E. Beaurepaire, J.-C. Merle, A. Daunois, and J.-Y. Bigot: Phys. Rev. Lett. 76, 4250 (1996).
• C.D. Stanciu, F. Hansteen, A.V. Kimel, A. Kirilyuk, A. Tsukamoto, A. Itoh, and Th. Rasing: Phys. Rev. Lett. 99, 047601 (2007).
• M. Matsubara, Y. Okimoto, T. Ogasawara, Y. Tomioka, H. Okamoto, and Y. Tokura: Phys. Rev. Lett. 99, 207401 (2007).

タイトルに関連する用語 (2件)： 光パルス ,  磁気制御