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J-GLOBAL ID:201902299907770647   整理番号:19A1408949

金属-誘電体側壁界面を通る熱伝導【JST・京大機械翻訳】

Thermal Conduction across Metal-Dielectric Sidewall Interfaces
著者 (12件):
資料名:
巻:号: 35  ページ: 30100-30106  発行年: 2017年09月06日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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複雑なナノ構造の界面における熱流は,界面の非平面性のために部分的に三次元である。ナノ系で一般的な一つの例は,界面面積のかなりの割合が主面に垂直な側壁から成る場合,例えば相補的金属-酸化物半導体トランジスタのためのメタライゼーション構造にある。このような側壁界面は,エネルギーキャリア輸送を妨げ,界面抵抗の効果的な増加をもたらす,非常に高いレベルの微細構造不規則性を含むことがしばしば観察される。これらの側壁界面の影響は,実用的なデバイス工学のために,より深い深さで調査する必要があり,関連する問題は,適切な特性化技術が利用できないことである。ここでは,懸濁ナノ格子構造を用いてアルミニウムと二酸化ケイ素間の側壁界面の熱抵抗を抽出するための新しい電熱法と複雑な微細加工構造を開発した。側壁界面の熱抵抗は約16±5m~2KGW-1と測定され,これは実験試料中の同じ材料から成る等価水平平面界面の2倍の大きさである。粗い側壁界面は透過型電子顕微鏡写真を用いて観察され,同じナノ構造における基板計画における界面におけるよりもより広範囲である可能性がある。二次元正弦波表面に基づくモデルは,熱抵抗に対する粗さの影響を約2m~2KGW-1と推定した。モデル予測と実験の間の大きな不一致はAl-SiO_2側壁界面における不完全な接触に起因し,側壁開口下のシリコン基板のアンダーレッチングの観察によって推論された。本研究は,側壁界面がナノ構造系の熱分析において平面界面から別々に考慮されなければならないことを示唆した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
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比熱・熱伝導一般  ,  非金属のその他の熱的性質  ,  炭素とその化合物 
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