特許

J-GLOBAL ID：201903000696509517

成膜装置

発明者： 長江 亦周 ,  菅原 卓哉 ,  青山 貴昭
出願人/特許権者： 株式会社シンクロン
代理人 (1件)： とこしえ特許業務法人
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018014735
公開番号（公開出願番号）：WO2018-190268
出願日： 2018年04月06日
公開日（公表日）： 2018年10月18日
要約：

本発明は成膜装置を開示している。成膜装置は、真空容器と、前記真空容器内部に連通する排気機構と、複数の基板を保持可能な基板保持手段と、前記真空容器内部に位置し、スパッタによってターゲットからスパッタイオンを放出し、前記基板に到達させ得る成膜領域と、前記真空容器内に位置し、前記成膜領域を前記真空容器内の他の領域から隔離する隔離手段と、を備え、前記隔離手段は、前記成膜領域が前記成膜領域の外部に連通するように配置される。

請求項（抜粋）：

真空容器と、 前記真空容器内部に連通する排気機構と、 複数の基板を保持可能な基板保持手段と、 前記真空容器内部に位置し、スパッタによってターゲットからスパッタイオンを放出し、前記基板に到達させることを可能とする成膜領域と、 前記真空容器内に位置し、前記成膜領域を前記真空容器内の領域から隔離する隔離手段と、 を備え、 前記隔離手段は、前記成膜領域と前記成膜領域の外部とを連通する機構を有することを特徴とする成膜装置。

IPC (1件)：

C23C 14/34

FI (1件)：

C23C14/34 T

Fターム (6件)：

4K029DA01 ,  4K029DC16 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09