特許

J-GLOBAL ID：201903002697399629

核酸アレイの製造方法、及び核酸アレイ製造装置

発明者： 川上 雄介
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (3件)： 西澤 和純 ,  大浪 一徳 ,  小林 淳一
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018000303
公開番号（公開出願番号）：WO2018-131593
出願日： 2018年01月10日
公開日（公表日）： 2018年07月19日
要約：

(a)酸分解性保護基で保護された官能基を有する分子が固定化された固相上に、露光により酸を発生する光酸発生剤(PAG)を含有する樹脂組成物の層(PAG層)を形成する工程と、(b)前記PAG層の所望の位置を露光する工程と、(c)前記の露光後のPAG層を除去する工程と、(d)前記のPAG層を除去した固相を、酸分解性保護基を有するヌクレオチド誘導体と接触させる工程と、を含む核酸アレイの製造方法。

請求項（抜粋）：

(a)酸分解性保護基で保護された官能基を有する分子が固定化された固相上に、露光により酸を発生する光酸発生剤(PAG)を含有する樹脂組成物の層(PAG層)を形成する工程と、 (b)前記PAG層の所望の位置を露光する工程と、 (c)前記の露光後のPAG層を除去する工程と、 (d)前記のPAG層を除去した固相を、酸分解性保護基を有するヌクレオチド誘導体と接触させる工程と、を含む 核酸アレイの製造方法。

IPC (2件)：

C12N 15/09 ,  C12M 1/00

FI (2件)：

C12N15/09 200 ,  C12M1/00 A

Fターム (3件)：

4B029AA07 ,  4B029BB20 ,  4B029CC03