特許

J-GLOBAL ID：201903003033025620

カバー部材及びその製造方法

発明者： 伊村 正明 ,  山崎 雄亮 ,  高村 仁 ,  石井 暁大 ,  アダム・ユージン・シマブクロ
出願人/特許権者： 日本電気硝子株式会社 ,  国立大学法人東北大学
代理人 (2件)： 恩田 誠 ,  恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-021426
公開番号（公開出願番号）：特開2019-137575
出願日： 2018年02月08日
公開日（公表日）： 2019年08月22日
要約：

【課題】好適な光学特性を発揮させることを可能にしたカバー部材及びその製造方法を提供する。【解決手段】カバー部材11は、光源を含む部品(部品E1等)を覆う用途に用いられる。カバー部材11は、光透過性を有する基材12と、基材12に設けられた光学膜13とを有する。カバー部材11の光学膜13は、Ti-Nb系複合酸化物成分を含有する。カバー部材11の吸収係数は、波長380nm以上、780nm以下の可視光領域の全領域において、5μm-1以上、30μm-1以下の範囲内である。カバー部材11において、波長380nm以上、波長780nm以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、7μm-1以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源を含む部品を覆う用途に用いられるカバー部材であって、 光透過性を有する基材と、前記基材に設けられた光学膜とを有し、 前記光学膜は、Ti-Nb系複合酸化物成分を含有し、 波長380nm以上、780nm以下の可視光領域の全領域において、吸収係数は5μm-1以上、30μm-1以下の範囲内であり、かつ、波長380nm以上、波長780nm以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、7μm-1以下であることを特徴とするカバー部材。

IPC (2件)：

C03C 17/245 ,  G02B 5/00

FI (2件)：

C03C17/245 Z ,  G02B5/00 Z

Fターム (7件)：

2H042AA06 ,  2H042AA11 ,  2H042AA26 ,  4G059AA01 ,  4G059AC07 ,  4G059EA07 ,  4G059EB01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ハーフミラー用複合酸化物薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-086157   出願人：日本曹達株式会社
• TiO2をベースとするスパッタ材料を含有するスパッタターゲット並びに製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-513595   出願人：ヴェーツェーヘレーウスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 混合酸化物の高屈折率光学被膜材料及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-534163   出願人：フレックスプロダクツインコーポレイテッド