特許

J-GLOBAL ID：201903003099215862

カーボンナノチューブフィルムで二次元ナノ材料を転写する方法

発明者： 叢 琳 ,  趙 偉 ,  張 金 ,  蔡 裕謙 ,  姜 開利 ,  ▲ハン▼ 守善
出願人/特許権者： ツィンファ ユニバーシティ ,  鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司
代理人 (1件)： TRY国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-010390
公開番号（公開出願番号）：特開2019-127435
出願日： 2019年01月24日
公開日（公表日）： 2019年08月01日
要約：

【課題】カーボンナノチューブフィルムで二次元ナノ材料を転写する方法の提供。【解決手段】S1:第一基板101を提供して、第一基板101の表面に二次元ナノ材料層102が形成される。S2:カーボンナノチューブフィルム構造体103で二次元ナノ材料層102を覆う。S3:腐食溶液で第一基板101を除去し、二次元ナノ材料層102及びカーボンナノチューブフィルム構造体103からなる二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を獲得し、該複合構造体を洗浄液に置き、洗浄する。S4:ターゲット基板104を提供、該基板104を利用し、洗浄液から二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を掬い上げ、ターゲット基板104を二次元ナノ材料層102と接合させる。S5:カーボンナノチューブフィルム構造体103を除去し、二次元ナノ材料層102がターゲット基板104の表面に転写される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第一基板を提供するステップであって、該第一基板の表面に二次元ナノ材料層が形成されるステップと、 カーボンナノチューブフィルム構造体で前記二次元ナノ材料層を覆うステップと、 腐食溶液で前記第一基板を除去し、前記二次元ナノ材料層及び前記カーボンナノチューブフィルム構造体からなる二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を獲得し、前記二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を洗浄液に置き、洗浄するステップと、 ターゲット基板を提供し、該ターゲット基板を利用し、前記二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を掬い上げ、前記ターゲット基板を前記二次元ナノ材料層と接合させるステップと、 前記カーボンナノチューブフィルム構造体を除去し、前記二次元ナノ材料層を前記ターゲット基板の表面に転写させるステップと、 を含むことを特徴とするカーボンナノチューブフィルムで二次元ナノ材料を転写する方法。

IPC (4件)：

C01B 32/194 ,  C01B 32/168 ,  C01G 39/06 ,  B82Y 40/00

FI (4件)：

C01B32/194 ,  C01B32/168 ,  C01G39/06 ,  B82Y40/00

Fターム (7件)：

4G048AA07 ,  4G048AB03 ,  4G048AD02 ,  4G146AA01 ,  4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD05