特許

J-GLOBAL ID：201903003333453535

新規テトラチアスピロ化合物、それを含む光学用組成物、及びその製造方法

発明者： 青柳 直人 ,  福岡 弘直 ,  堀越 裕 ,  並木 康佑 ,  遠藤 剛
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (4件)： 小林 浩 ,  杉山 共永 ,  植竹 友紀子 ,  鈴木 康仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-115208
公開番号（公開出願番号）：特開2019-001785
出願日： 2018年06月18日
公開日（公表日）： 2019年01月10日
要約：

【課題】光重合性に優れる化合物であって、向上した選択率及び簡便かつ少ない工程数で製造できるテトラチアスピロ化合物、及びその製造方法の提供。【解決手段】例えば下記反応式に従い製造されるテトラチアスピロ化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表されるテトラチアスピロ化合物:

IPC (4件)：

C07D 495/10 ,  C08G 75/045 ,  B01J 27/138 ,  G02B 1/04

FI (4件)：

C07D495/10 ,  C08G75/045 ,  B01J27/138 Z ,  G02B1/04

Fターム (37件)：

4C071AA04 ,  4C071BB01 ,  4C071CC24 ,  4C071EE12 ,  4C071FF22 ,  4C071GG03 ,  4C071GG04 ,  4C071KK01 ,  4C071LL05 ,  4G169AA06 ,  4G169BB08A ,  4G169BB08B ,  4G169BC35A ,  4G169BC35B ,  4G169BD12B ,  4G169BD13B ,  4G169BD14A ,  4G169BD14B ,  4G169CB25 ,  4G169DA03 ,  4G169FA01 ,  4G169FB52 ,  4G169FB77 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006TA04 ,  4H006TB75 ,  4J030BA04 ,  4J030BA32 ,  4J030BA44 ,  4J030BA47 ,  4J030BA48 ,  4J030BA51 ,  4J030BB08 ,  4J030BF19 ,  4J030BG25