特許

J-GLOBAL ID：201903003516209986

ガス分離装置及びガス分離方法

発明者： 中村 勇規 ,  小野 義宣
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (3件)： 特許業務法人イイダアンドパートナーズ ,  飯田 敏三 ,  赤羽 修一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-076411
公開番号（公開出願番号）：特開2019-181383
出願日： 2018年04月11日
公開日（公表日）： 2019年10月24日
要約：

【課題】 本発明は、希ガスを含む排ガスからクロマト分離により希ガスを分離する前に、排ガス中の希ガス濃度を高めることで、希ガスを高い回収率にて高純度に分離回収するガス分離装置及びガス分離方法を提供する。【解決手段】 少なくとも希ガスを含有する被処理ガスから希ガスを回収するガス分離装置1であって、前記被処理ガス中から希ガスを分離し、回収する希ガス回収装置11を有し、前記希ガス回収装置11の前段に第一のガス分離膜を備え、前記第一のガス分離膜によって前記希ガスの濃度が高められた前記被処理ガスを前記希ガス回収装置11に通気するガス分離装置1。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも希ガスを含有する被処理ガスから希ガスを回収するガス分離装置であって、 前記被処理ガス中から希ガスを分離し、回収する希ガス回収装置を有し、 前記希ガス回収装置の前段に第一のガス分離膜を備え、 前記第一のガス分離膜によって前記希ガスの濃度が高められた前記被処理ガスを前記希ガス回収装置に通気するガス分離装置。

IPC (3件)：

B01D 53/22 ,  B01D 71/02 ,  B01J 20/18

FI (3件)：

B01D53/22 ,  B01D71/02 500 ,  B01J20/18 B

Fターム (25件)：

4D006GA41 ,  4D006JA58A ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA56 ,  4D006KA72 ,  4D006KB12 ,  4D006KE01P ,  4D006KE11P ,  4D006KE16Q ,  4D006MA21 ,  4D006MC03 ,  4D006MC05 ,  4D006MC58 ,  4D006MC62 ,  4D006MC68 ,  4D006PA02 ,  4D006PB08 ,  4D006PB63 ,  4D006PB70 ,  4G066AA61B ,  4G066BA23 ,  4G066CA39 ,  4G066DA02 ,  4G066EA01