特許

J-GLOBAL ID：201903003720573042

微細穴光学素子の製造方法、および微細穴光学素子

発明者： 野本 憲太郎
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (2件)： 小西 恵 ,  永岡 重幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-025079
公開番号（公開出願番号）：特開2019-139190
出願日： 2018年02月15日
公開日（公表日）： 2019年08月22日
要約：

【課題】軽量かつ、大きな有効面積と高い集光性能とを有する微細穴光学素子を提供する。【解決手段】微細穴光学素子の製造方法は、単一に形成されあるいは複数部分が一体化されて形成された透明基板2の表面に沿って複数のスリット3が配備されているとともに、透明基板2の表面から裏面に至る途中で、表面に対する各スリット3の角度が第1の角度から第2の角度に変化する微細穴光学素子の製造方法であって、透明基板2に対して複数のスリット3を形成するスリット形成工程と、複数のスリット3それぞれの内壁に反射層4を形成する反射層形成工程と、を備える。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

単一に形成されあるいは複数部分が一体化されて形成された透明基板の表面に沿って複数のスリットが配備されているとともに、当該透明基板の表面から裏面に至る途中で、当該表面に対する各スリットの角度が第1の角度から第2の角度に変化する微細穴光学素子の製造方法であって、 前記透明基板に対して前記複数のスリットを形成するスリット形成工程と、 前記複数のスリットそれぞれの内壁に反射層を形成する反射層形成工程と、 を備えることを特徴とする微細穴光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/08 ,  G21K 1/06 ,  G02B 5/10

FI (5件)：

G02B5/08 A ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 D ,  G02B5/08 C ,  G02B5/10

Fターム (11件)：

2H042DA01 ,  2H042DA05 ,  2H042DA07 ,  2H042DA11 ,  2H042DA12 ,  2H042DA22 ,  2H042DB14 ,  2H042DC01 ,  2H042DC09 ,  2H042DD10 ,  2H042DE00