特許
J-GLOBAL ID:201903004651369876
積層化細胞シートの製造方法、及びそれにより作製される積層化細胞シート
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (7件):
青木 篤
, 石田 敬
, 福本 積
, 古賀 哲次
, 渡辺 陽一
, 武居 良太郎
, 柴田 潤二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-127873
公開番号(公開出願番号):特開2019-010030
出願日: 2017年06月29日
公開日(公表日): 2019年01月24日
要約:
【課題】非侵襲的に脱着可能で移植等に利用可能な積層化細胞シートを温度応答性培養表面上で迅速かつ安定して製造する方法及びそれにより得られた積層化細胞シートの提供。【解決手段】本発明は、非侵襲的に脱着可能で移植等に利用可能な積層化細胞シートを迅速に製造する方法であって、(1)温度応答性培養表面の上の第1細胞シートを、前記温度応答性培養表面の下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、所定時間、遠心力を印加する工程、(2)前記第1細胞シートの上に、さらに、第2細胞シートを載置する工程、(3)前記温度応答性培養表面の上の、前記第1細胞シート及び前記第2細胞シートを、前記下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、前記所定時間、前記遠心力を印加する工程、を含む、方法を提供する。さらに、前記方法によって得られた積層化細胞シートを提供する。【選択図】図4
請求項(抜粋):
積層化細胞シートを製造する方法であって、前記方法は:
(1)温度応答性培養表面の上の第1細胞シートを、前記温度応答性培養表面の下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、所定時間、遠心力を印加する工程、
(2)前記第1細胞シートの上に、さらに、第2細胞シートを載置する工程、
(3)前記温度応答性培養表面の上の、前記第1細胞シート及び前記第2細胞シートを、前記下限臨界溶液温度〜45°Cの温度範囲にて、前記所定時間、前記遠心力を印加する工程、
を含む、方法。
IPC (3件):
C12N 5/077
, A61L 27/40
, A61L 27/38
FI (4件):
C12N5/077
, A61L27/40
, A61L27/38
, A61L27/38 300
Fターム (27件):
4B029AA01
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029DG08
, 4B029GA01
, 4B029GA08
, 4B029GB09
, 4B029HA10
, 4B065AA91X
, 4B065AC20
, 4B065BB04
, 4B065BB19
, 4B065BB20
, 4B065BC41
, 4B065BD08
, 4B065BD09
, 4B065BD15
, 4B065BD50
, 4B065CA44
, 4B065CA60
, 4C081AB11
, 4C081BA12
, 4C081CD34
, 4C081DA02
, 4C081DC04
, 4C081EA11
, 4C081EA12
引用文献:
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