特許

J-GLOBAL ID：201903004777964095

配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機

発明者： 松本 和弘 ,  佐藤 一彦 ,  島田 茂
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人秀和特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018007759
公開番号（公開出願番号）：WO2018-159756
出願日： 2018年03月01日
公開日（公表日）： 2018年09月07日
要約：

オリゴシロキサンを効率よく製造することができるオリゴシロキサンの製造方法及びオリゴシロキサン合成機を提供することを目的とする。ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式(b)で表される構造を有するアルコキシシランと下記式(c)で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式(d)で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程、及びルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合工程で生成した前記式(d)で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式(E)で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式(f)で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化工程を含むオリゴシロキサンの製造方法によって、オリゴシロキサンを効率よく製造することができる。また、任意の置換基配列を有するオリゴシロキサンを製造することができる。

請求項（抜粋）：

ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、下記式(b)で表される構造を有するアルコキシシランと下記式(c)で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式(d)で表される構造を有するヒドロシロキサンを生成する縮合工程、及び ルイス酸性を有するホウ素化合物の存在下、前記縮合工程で生成した前記式(d)で表される構造を有するヒドロシロキサンと下記式(E)で表されるカルボニル化合物を反応させて下記式(f)で表される構造を有するアルコキシシロキサンを生成するヒドロシリル化工程を含むことを特徴とするオリゴシロキサンの製造方法。

IPC (2件)：

C07F 7/18 ,  C07F 7/21

FI (2件)：

C07F7/18 X ,  C07F7/21

Fターム (32件)：

4H039CA92 ,  4H039CD90 ,  4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VP05 ,  4H049VP06 ,  4H049VP07 ,  4H049VP09 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ07 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ78 ,  4H049VQ95 ,  4H049VR11 ,  4H049VR12 ,  4H049VR13 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VS02 ,  4H049VS07 ,  4H049VS21 ,  4H049VS95 ,  4H049VT08 ,  4H049VU26 ,  4H049VU28 ,  4H049VV02 ,  4H049VV07 ,  4H049VW02