塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：中山亨 , 坂元徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-172243
公開番号（公開出願番号）：特開2019-069937
出願日： 2018年09月14日
公開日（公表日）： 2019年05月09日
要約：

【課題】ラインエッジラフネス(LER)が低減されたレジストパターンを製造できる塩及び該塩を含有するレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩。[Q1及びQ2は、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。R1及びR2は、互いに独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。zは、0〜6の整数を表す。L1は、置換基を有していてもよい炭素数1〜36の2価の炭化水素基等を表す。W1は、置換基を有していてもよい炭素数3〜18の炭化水素環等を表す。L2は、単結合又は炭素数1〜6のアルカンジイル基等を表す。R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、炭素数1〜6の炭化水素基等を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (6件)：

C07F 7/18 , C07C 381/12 , C09K 3/00 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/20

FI (8件)：

C07F7/18 Q , C07C381/12 , C09K3/00 K , G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/20 501 , G03F7/20 521

Fターム (54件)：

2H197AA12 , 2H197CA01 , 2H197CA06 , 2H197CA08 , 2H197CA09 , 2H197CA10 , 2H197CE01 , 2H197CE10 , 2H197GA01 , 2H197HA03 , 2H197JA22 , 2H225AF11P , 2H225AF16P , 2H225AF22P , 2H225AF24P , 2H225AF53P , 2H225AF54P , 2H225AF56P , 2H225AF66P , 2H225AF67P , 2H225AF68P , 2H225AF69P , 2H225AF71P , 2H225AF91P , 2H225AH17 , 2H225AH19 , 2H225AJ13 , 2H225AJ54 , 2H225AJ59 , 2H225AM22P , 2H225AM99P , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225BA01P , 2H225BA26P , 2H225BA30P , 2H225CA12 , 2H225CB10 , 2H225CC03 , 2H225CC15 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H006TN10 , 4H006TN60 , 4H006TN90 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ54 , 4H049VR23 , 4H049VR41 , 4H049VU29 , 4H049VW01 , 4H049VW02

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