特許
J-GLOBAL ID：201903004873214773
研磨液組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人池内アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-095948
公開番号（公開出願番号）：特開2019-200829
出願日： 2018年05月18日
公開日（公表日）： 2019年11月21日
要約：
【課題】研磨速度を確保しつつ、研磨後の基板表面の表面欠陥及び研磨パッドの継続使用における短波長うねりを低減できる、磁気ディスク基板用研磨液組成物を提供する。【解決手段】磁気ディスク基板用研磨液組成物は、シリカ粒子(成分A)、水溶性高分子(成分B)、酸(成分C)、酸化剤(成分D)及び水を含む。水容性高分子が、式(I)で表される構成単位を含む水溶性高分子又は式(II)で表される構成単位を含む水溶性高分子の全R1及び全R2の少なくとも一部が水素原子、アルカリ金属及び有機アミンから選ばれる少なくとも1種で置換されている水溶性高分子である。式(I)中、M1及びM2はそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属、又は有機アミンを表す。式(II)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基又はアリール基を表す。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
シリカ粒子(成分A)、水溶性高分子(成分B)、酸(成分C)、酸化剤(成分D)及び水を含み、
前記成分Bが、下記式(I)で表される構成単位を含む水溶性高分子B1、又は、下記式(II)で表される構成単位を含む水溶性高分子の全R1及び全R2の少なくとも一部が水素原子、アルカリ金属及び有機アミンから選ばれる少なくとも1種で置換されている水溶性高分子B2である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, C09K 3/14
, B24B 37/00
G11B5/84 A
, C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
, B24B37/00 H
3C158AA07
, 3C158CA04
, 3C158CB02
, 3C158DA02
, 3C158DA17
, 3C158EA01
, 3C158EB01
, 3C158ED02
, 3C158ED10
, 3C158ED23
, 3C158ED26
, 3C158ED28
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA06
, 5D112BA09
, 5D112GA09
, 5D112GA14
