特許
J-GLOBAL ID:201903005459642697
SiC単結晶の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (6件):
青木 篤
, 三橋 真二
, 鶴田 準一
, 伊藤 公一
, 関根 宣夫
, 河野上 正晴
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-224647
公開番号(公開出願番号):特開2019-094228
出願日: 2017年11月22日
公開日(公表日): 2019年06月20日
要約:
【課題】多結晶の混入を抑制してSiC単結晶を成長させることができる溶液法によるSiC単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】内部から表面に向けて温度低下する温度勾配を有するSi-C溶液にSiC種結晶基板を接触させてSiC単結晶を結晶成長させる、SiC単結晶の製造方法であって、前記Si-C溶液が、Siと、Crと、Mo及びWのうち少なくとも一種とを含み、前記Mo及びWが合計で、前記Si-C溶液を構成する溶媒の合計量を基準として、0.5〜10.0at%含まれるSi-C溶液を用いることを含む、SiC単結晶の製造方法。【選択図】図11
請求項(抜粋):
内部から表面に向けて温度低下する温度勾配を有するSi-C溶液にSiC種結晶基板を接触させてSiC単結晶を結晶成長させる、SiC単結晶の製造方法であって、
前記Si-C溶液が、Siと、Crと、Mo及びWのうち少なくとも一種とを含み、
前記Mo及びWが合計で、前記Si-C溶液を構成する溶媒の合計量を基準として、0.5〜10.0at%含まれるSi-C溶液を用いることを含む、
SiC単結晶の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (7件):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CD04
, 4G077EC08
, 4G077HA06
, 4G077HA12
, 4G077MB08
前のページに戻る