特許

J-GLOBAL ID：201903005824686518

露光装置および露光方法

発明者： 新井 敏成
出願人/特許権者： 株式会社ブイ・テクノロジー
代理人 (1件)： 特許業務法人日誠国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-092344
公開番号（公開出願番号）：特開2019-197187
出願日： 2018年05月11日
公開日（公表日）： 2019年11月14日
要約：

【課題】被露光基板の基板面内において隣接するフォトマスク同士の露光領域が重なる継ぎ領域にムラが生じることを抑制する露光装置および露光方法を提供する。【解決手段】第1のフォトマスク群は、複数の第1フォトマスクを備え、前記第1フォトマスク同士の互いに隣り合う露光領域が重なり合うように設定され、前記露光領域が重なり合う第1領域に対応する両方の前記第1フォトマスクの部分に互いに相補的な露光を可能とする第1グラデーション部を有し、前記第2のフォトマスク群は、複数の第2フォトマスクを備え、前記第2フォトマスク同士の互いに隣り合う露光領域が重なり合うように設定され、前記露光領域が重なり合う第2領域に対応する両方の前記第2フォトマスクの部分に互いに相補的な露光を可能にする第2グラデーション部を有し、前記第1領域と前記第2領域とが、前記走査方向で重なり合わない位置にあることを特徴とする。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

相対的に走査方向へ走査される被露光基板に設けられた配向膜に対して、第1のフォトマスク群を用いて、ストライプ状の第1露光ラインを前記走査方向に沿って形成する第1の露光を行った後、前記配向膜に対して、第2のフォトマスク群を用いて、前記第1の露光と異なる配向条件で、前記第1露光ラインのそれぞれに隣接するストライプ状の第2露光ラインを形成する第2の露光を行い、画素領域内に液晶分子の配向方向が異なる複数のドメイン領域を形成させるための露光を行う露光装置であって、 前記第1のフォトマスク群は、複数の第1フォトマスクを備え、前記第1フォトマスク同士の互いに隣り合う露光領域が重なり合うように設定され、前記露光領域が重なり合う第1領域に対応する両方の前記第1フォトマスクの部分に互いに相補的な露光を可能とする第1グラデーション部を有し、 前記第2のフォトマスク群は、複数の第2フォトマスクを備え、前記第2フォトマスク同士の互いに隣り合う露光領域が重なり合うように設定され、前記露光領域が重なり合う第2領域に対応する両方の前記第2フォトマスクの部分に互いに相補的な露光を可能にする第2グラデーション部を有し、 前記第1領域と前記第2領域とが、前記走査方向で重なり合わない位置にある、 露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/13

FI (3件)：

G03F7/20 501 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/13 101

Fターム (18件)：

2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA20 ,  2H088FA30 ,  2H088HA03 ,  2H197AA42 ,  2H197AA44 ,  2H197AB02 ,  2H197AB13 ,  2H197BA11 ,  2H197DB06 ,  2H197HA05 ,  2H197JA05 ,  2H290BA53 ,  2H290BC01 ,  2H290BF25 ,  2H290BF92 ,  2H290BF93