特許

J-GLOBAL ID：201903007073882432

撮像素子および撮像素子の製造方法

発明者： 七條 真衣 ,  堂福 忠幸
出願人/特許権者： ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社
代理人 (2件)： 松尾 憲一郎 ,  市川 泰央
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-045137
公開番号（公開出願番号）：特開2019-160986
出願日： 2018年03月13日
公開日（公表日）： 2019年09月19日
要約：

【課題】画素における両側に凸部を有するレンズの製造工程を簡略化する。【解決手段】撮像素子は、画素、下地層およびレンズを具備する。画素は、入射光に応じた画像信号を生成する。下地層は、その画素に配置されてその入射光を透過させるとともに凹部を備える。レンズは、画素毎のその下地層の凹部に隣接して配置されてその下地層の凹部に基づいて形成された凸部を備え、照射された光を集光してその下地層を介してその画素に入射させる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

入射光に応じた画像信号を生成する画素と、 前記画素に配置されて前記入射光を透過させるとともに凹部を備える下地層と、 前記画素毎の前記下地層の凹部に隣接して配置されて前記下地層の凹部に基づいて形成された凸部を備え、照射された光を集光して前記下地層を介して前記画素に入射させるレンズと を具備する撮像素子。

IPC (3件)：

H01L 27/146 ,  H04N 5/369 ,  G02B 3/00

FI (3件)：

H01L27/146 D ,  H04N5/369 ,  G02B3/00 A

Fターム (21件)：

4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118AB03 ,  4M118BA14 ,  4M118CA04 ,  4M118FA06 ,  4M118FA38 ,  4M118GA02 ,  4M118GB03 ,  4M118GB07 ,  4M118GB11 ,  4M118GC07 ,  4M118GD03 ,  4M118GD04 ,  4M118GD07 ,  4M118GD20 ,  4M118HA24 ,  4M118HA25 ,  5C024CY47 ,  5C024EX43 ,  5C024EX52