特許

J-GLOBAL ID：201903007916817107

ガス分離膜、ガス分離膜モジュールおよびガス分離装置

発明者： 向井 厚史 ,  望月 勇輔
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-155957
公開番号（公開出願番号）：特開2019-166418
出願日： 2016年08月08日
公開日（公表日）： 2019年10月03日
要約：

【課題】C3ガス分離選択性のバラツキが小さいガス分離膜の提供;ガス分離膜モジュール;ガス分離装置。【解決手段】支持体、樹脂層、分離層および保護層をこの順で有し、樹脂層がシロキサン結合を有する化合物を含み、保護層が分離層と直接接し、保護層の組成が樹脂層の組成と異なり、保護層の組成が分離層の組成と異なり、分離層は、厚み方向で保護層側の半分の領域の組成におけるケイ素原子含有率の最大値が2atomic%以下である、ガス分離膜;ガス分離膜モジュール;ガス分離装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

支持体、樹脂層、分離層および保護層をこの順で有し、 前記樹脂層がシロキサン結合を有する化合物を含み、 前記保護層が前記分離層と直接接し、 前記保護層の組成が前記樹脂層の組成と異なり、 前記保護層の組成が前記分離層の組成と異なり、 前記分離層は、厚み方向で前記保護層側の半分の領域の組成におけるケイ素原子含有率の最大値が2atomic%以下である、ガス分離膜。

IPC (9件)：

B01D 69/10 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  B01D 69/00 ,  B01D 71/70 ,  B01D 71/64 ,  B01D 71/40 ,  B01D 71/32 ,  C08G 73/10

FI (9件)：

B01D69/10 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12 ,  B01D69/00 ,  B01D71/70 ,  B01D71/64 ,  B01D71/40 ,  B01D71/32 ,  C08G73/10

Fターム (67件)：

4D006GA41 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA61 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB13 ,  4D006MC11 ,  4D006MC18 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC24 ,  4D006MC28 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC45 ,  4D006MC46 ,  4D006MC48 ,  4D006MC53 ,  4D006MC54 ,  4D006MC57 ,  4D006MC58X ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC65X ,  4D006MC71X ,  4D006MC75X ,  4D006MC76X ,  4D006MC78X ,  4D006MC79X ,  4D006MC88 ,  4D006NA03 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PB68 ,  4J043PA05 ,  4J043PA08 ,  4J043PC016 ,  4J043PC066 ,  4J043PC146 ,  4J043PC186 ,  4J043QB15 ,  4J043QB26 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SA17 ,  4J043SA62 ,  4J043SB03 ,  4J043TA22 ,  4J043TB01 ,  4J043UA121 ,  4J043UA132 ,  4J043UB062 ,  4J043ZB15