特許
J-GLOBAL ID：201903008138273656
高周波加熱装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松谷 道子
, 岡部 博史
, 山田 裕三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-035121
公開番号（公開出願番号）：特開2019-148405
出願日： 2018年02月28日
公開日（公表日）： 2019年09月05日
要約：
【課題】信頼性を向上させた高周波加熱装置を提供する。【解決手段】高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、加熱室の下方に設けられた機械室40であって、高周波加熱装置の底部を構成する底壁42を有し、底壁に複数のパンチング孔42Aを形成した機械室と、機械室内に配置され、加熱室に向けて高周波を放射するマグネトロンと、機械室内に配置され、機械室のパンチング孔に面する吸込口を有して、吸込口から吸い込んだ空気をマグネトロンに向けて送風する冷却ファンと、機械室の底壁の下で、パンチング孔が形成される底壁の領域と平面視で部分的に重なり、かつ、上下方向に厚みを有したスペーサ部材50と、を備える。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
被加熱物を収容する加熱室内に高周波を供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、
前記加熱室の下方に設けられた機械室であって、前記高周波加熱装置の底部を構成する底壁を有し、前記底壁に複数のパンチング孔を形成した機械室と、
前記機械室内に配置され、前記加熱室に向けて高周波を放射するマグネトロンと、
前記機械室内に配置され、前記機械室の前記パンチング孔に面する吸込口を有して、前記吸込口から吸い込んだ空気を前記マグネトロンに向けて送風する冷却ファンと、
前記機械室の前記底壁の下で、前記パンチング孔が形成される前記底壁の領域と平面視で部分的に重なり、かつ、上下方向に厚みを有したスペーサ部材と、
を備える、高周波加熱装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
3L086AA01
, 3L086BA06
, 3L086BE02
, 3L086BE11
, 3L086DA17
出願人引用 (2件)
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加熱調理器
公報種別：公開公報
出願番号：特願2014-082989
出願人：日立アプライアンス株式会社
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誘導加熱調理器
公報種別：公開公報
出願番号：特願2009-245145
出願人：パナソニック株式会社
審査官引用 (2件)
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加熱調理器
公報種別：公開公報
出願番号：特願2014-082989
出願人：日立アプライアンス株式会社
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誘導加熱調理器
公報種別：公開公報
出願番号：特願2009-245145
出願人：パナソニック株式会社
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