特許
J-GLOBAL ID:201903008541704560

超近接スイッチ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 中前 富士男 ,  清井 洋平 ,  来田 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-050775
公開番号(公開出願番号):特開2019-164205
出願日: 2018年03月19日
公開日(公表日): 2019年09月26日
要約:
【課題】検出精度が高い超近接スイッチを提供する。【解決手段】透光体11を具備し、透光体11の所定の面F14の表側近傍に検出対象物Wが配されていることを検知する超近接スイッチ10であって、第1の光P1を照射して、近接場光E1が存在する層L1を、面F14の表側に発生させ、第1の光P1と波長が異なる第2の光P2を照射して、近接場光E2が存在する、層L1より厚い層L2を、層L1及び層L2が重複する領域を有する状態で、面F14の表側に発生させる照射手段12と、近接場光E1が検出対象物Wに反射されて生じる第1の散乱光Q1、及び、近接場光E2が検出対象物Wに反射されて生じる第2の散乱光Q2の検出に基づいて、層L2外、層L2内かつ層L1外の領域、又は、層L1内のいずれに検出対象物Wが配されているかを検知する検出手段13とを備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
透光体を具備し、該透光体の所定の面Fの表側近傍に検出対象物が配されていることを検知する超近接スイッチであって、 第1の光を照射して、近接場光E1が存在する層L1を、前記面Fの表側に発生させ、前記第1の光と波長が異なる第2の光を照射して、近接場光E2が存在する、前記層L1より厚い層L2を、該層L1及び該層L2が重複する領域を有する状態で、前記面Fの表側に発生させる照射手段と、 前記近接場光E1が前記検出対象物に反射されて生じる第1の散乱光、及び、前記近接場光E2が前記検出対象物に反射されて生じる第2の散乱光の検出に基づいて、前記層L2外、該層L2内かつ前記層L1外の領域、又は、該層L1内のいずれに前記検出対象物が配されているかを検知する検出手段とを備えることを特徴とする超近接スイッチ。
IPC (4件):
G02B 26/00 ,  G01Q 80/00 ,  G01Q 60/18 ,  G01V 8/12
FI (4件):
G02B26/00 ,  G01Q80/00 ,  G01Q60/18 ,  G01V8/12 A
Fターム (16件):
2G105AA01 ,  2G105BB17 ,  2G105CC02 ,  2G105DD04 ,  2G105EE01 ,  2G105GG05 ,  2G105GG08 ,  2G105HH04 ,  2H141MA29 ,  2H141MB59 ,  2H141MC01 ,  2H141ME06 ,  2H141ME11 ,  2H141ME24 ,  2H141ME25 ,  2H141MG10
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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