特許

J-GLOBAL ID：201903008962446586

イオンビーム発生装置およびイオンビーム発生方法

発明者： スパダベッキヤ ウルデリコ クラウディオ アントニオ ,  志村 尚彦 ,  安井 祐之 ,  佐古 貴行 ,  松田 晋弥 ,  竹崎 太智 ,  佐々木 徹 ,  高橋 一匡 ,  菊池 崇志
出願人/特許権者： 東芝エネルギーシステムズ株式会社 ,  国立大学法人長岡技術科学大学
代理人 (1件)： 特許業務法人東京国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-076802
公開番号（公開出願番号）：特開2019-186079
出願日： 2018年04月12日
公開日（公表日）： 2019年10月24日
要約：

【課題】イオンビームを安定的に発生させることができるイオンビーム発生技術を提供する。【解決手段】イオンビーム発生装置1は、プラズマPの発生源となるガスGが満たされるプラズマ発生室21と、プラズマ発生室21に設けられ、ガスGの分子を電離させてプラズマPを発生させる電離用電極16と、プラズマ発生室21からプラズマPが導入されるプラズマフォーカス室9と、プラズマフォーカス室9に設けられ、プラズマPを加速させる加速用電極4とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

プラズマの発生源となるガスが満たされるプラズマ発生室と、 前記プラズマ発生室に設けられ、前記ガスの分子を電離させてプラズマを発生させる電離用電極と、 前記プラズマ発生室から前記プラズマが導入されるプラズマフォーカス室と、 前記プラズマフォーカス室に設けられ、前記プラズマを加速させる加速用電極と、 を備えるイオンビーム発生装置。

IPC (4件)：

H01J 37/04 ,  H01J 37/08 ,  H05H 1/24 ,  H05H 1/54

FI (4件)：

H01J37/04 Z ,  H01J37/08 ,  H05H1/24 ,  H05H1/54

Fターム (17件)：

2G084AA12 ,  2G084AA22 ,  2G084AA24 ,  2G084BB01 ,  2G084CC03 ,  2G084CC11 ,  2G084CC32 ,  2G084DD01 ,  2G084DD12 ,  2G084DD22 ,  2G084DD39 ,  2G084FF02 ,  2G084FF25 ,  5C030BB02 ,  5C030BB06 ,  5C030BB09 ,  5C030DE10