特許
J-GLOBAL ID：201903009676610677
水素ガス発生光触媒装置
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
▲吉▼川 俊雄
, 市川 寛奈
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-541657
公開番号（公開出願番号）：特表2019-507007
出願日： 2017年02月17日
公開日（公表日）： 2019年03月14日
要約：
水相を解離して水素ガスを発生する光触媒装置であって、該水相における酸化反応により、電子捕獲手段で酸素ガス、電子及びプロトンを発生させるため、該水相と接触する少なくとも1つの光触媒系を光源により照射することができるように配置され、該水相を含む第1帯と、水素ガスを発生させるために、該電子により該プロトンに対する還元反応を行うように配置された該プロトンを還元する手段と、を含む装置であり、該プロトン還元手段が該電子捕獲手段に面する前側、及び裏側を有するプロトン交換界面であり、該プロトン交換界面の該裏側のみが少なくとも1つの触媒及び/又は少なくとも1つの触媒系を支持することを特徴とする、装置。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
水相を解離して水素ガスを発生する光触媒装置であって、前記水相における酸化反応により電子捕獲手段で酸素ガス、電子及びプロトンを発生させるため、前記水相と接触する少なくとも1つの光触媒系を光源により照射することができるように配置され、
前記水相を含む第1帯と、
水素ガスを発生させるため、前記電子による前記プロトンに対する還元反応を行うように配置される前記プロトンを還元する手段と、を含む装置であり、
前記プロトン還元手段が前記電子捕獲手段に面する前側、及び裏側を有するプロトン交換界面であり、前記プロトン交換界面の前記裏側のみが、少なくとも1つの触媒及び/又は少なくとも1つの触媒系を支持することを特徴とする、光触媒装置。
IPC (4件)：
B01J 35/02
, C01B 3/04
, C25B 1/06
, C25B 9/00
B01J35/02 J
, C01B3/04 A
, C25B1/06
, C25B9/00 A
4G169AA03
, 4G169BA08A
, 4G169BA29A
, 4G169BA48A
, 4G169BC75A
, 4G169CC33
, 4G169DA05
, 4G169HA01
, 4G169HE09
, 4G169HF02
, 4K021AA01
, 4K021BA02
, 4K021BA17
, 4K021CA06
, 4K021CA09
, 4K021CA15
, 4K021DB18
, 4K021DB31
, 4K021DB43
, 4K021DB53
, 4K021DC03
