特許
J-GLOBAL ID:201903009858242789

プラズマ生成装置、プラズマ生成方法およびプラズマ処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-056645
公開番号(公開出願番号):特開2017-174526
特許番号:特許第6554055号
出願日: 2016年03月22日
公開日(公表日): 2017年09月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数の給電点を有する電極、 前記電極の主面に対面して配置される対向電極、 前記電極に高周波電力を供給し前記電極と前記対向電極との間にプラズマを励起する高周波電源、 前記高周波電源から前記電極の複数の前記給電点に接続されている複数の導線、 前記導線を覆って配置される、接地された接地導体、および、 少なくとも1つの前記導線と前記接地導体との間の少なくとも一部に配置される誘電体、を有し、 前記接地導体は、箱型形状を有し、内部に前記複数の導線を内包しており、 前記誘電体を、前記導線と前記接地導体との間で、前記導線と前記導線に近接する前記接地導体との配列方向に直交する方向に、移動させることで、前記導線と、前記導線に近接する前記接地導体との間の空間に占める前記誘電体の割合を変更可能としていることを特徴とするプラズマ生成装置。
IPC (3件):
H05H 1/46 ( 200 6.01) ,  C23C 16/509 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05H 1/46 M ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/302 101 B
引用特許:
審査官引用 (7件)
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