特許

J-GLOBAL ID：201903010465730470

3次元測定装置、3次元測定方法及び3次元測定プログラム

発明者： 付 星斗 ,  清水 隆史
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (5件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦 ,  伊藤 健太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-019998
公開番号（公開出願番号）：特開2019-138686
出願日： 2018年02月07日
公開日（公表日）： 2019年08月22日
要約：

【課題】撮像部の露光時間を短縮して、測定対象物の3次元形状を測定するために要する時間を短縮することができる3次元測定装置等を提供する。【解決手段】3次元測定装置は、パターン光を測定対象物に投影する投影部と、パターン光が投影された測定対象物の画像を、所定の露光時間で撮像する撮像部と、画像に含まれる複数の特徴点に基づいて、測定対象物の3次元形状を表す3次元点群の位置を算出する算出部と、複数の特徴点の数及び3次元点群の数の少なくとも一方が、いずれか一方の最大値に基づいて定められる閾値以上となり、露光時間が、最大値に対する露光時間よりも短くなるように、露光時間を決定する決定部と、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターン光を測定対象物に投影する投影部と、 前記パターン光が投影された前記測定対象物の画像を、所定の露光時間で撮像する撮像部と、 前記画像に含まれる複数の特徴点を抽出し、前記複数の特徴点に基づいて、前記測定対象物の3次元形状を表す3次元点群の位置を算出する算出部と、 前記複数の特徴点の数及び前記3次元点群に含まれる点の数の少なくとも一方が、前記複数の特徴点の数及び前記3次元点群に含まれる点の数のいずれか一方の最大値に基づいて定められる閾値以上となり、前記露光時間が、前記最大値に対する露光時間よりも短くなるように、前記露光時間を決定する決定部と、 を備える3次元測定装置。

IPC (4件)：

G01B 11/25 ,  G01B 11/24 ,  G06T 7/521 ,  G06T 7/70

FI (4件)：

G01B11/25 H ,  G01B11/24 K ,  G06T7/521 ,  G06T7/70 A

Fターム (31件)：

2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD06 ,  2F065FF02 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065GG15 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ03 ,  2F065LL42 ,  2F065LL53 ,  2F065MM16 ,  2F065NN12 ,  2F065NN17 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ41 ,  2F065UU05 ,  5L096AA06 ,  5L096CA17 ,  5L096FA09 ,  5L096FA52 ,  5L096FA66 ,  5L096FA69 ,  5L096GA32 ,  5L096GA51