特許

J-GLOBAL ID：201903010501752299

蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法および有機半導体素子の製造方法

発明者： 曽根 康子 ,  川崎 博司 ,  廣部 吉紀 ,  小幡 勝也 ,  成田 亜沙子 ,  居城 均 ,  初田 千秋
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 特許業務法人 インテクト国際特許事務所 ,  石橋 良規
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018013798
公開番号（公開出願番号）：WO2018-181969
出願日： 2018年03月30日
公開日（公表日）： 2018年10月04日
要約：

金属マスク開口部が設けられた金属マスクと、前記金属マスク開口部と重なる位置に蒸着作製するパターンに対応した樹脂マスク開口部が設けられた樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクであって、前記金属マスク開口部から露出する前記樹脂マスクの表面の算術平均高さ(Sa)が0.8μm以下である。

請求項（抜粋）：

金属マスク開口部が設けられた金属マスクと、前記金属マスク開口部と重なる位置に蒸着作製するパターンに対応した樹脂マスク開口部が設けられた樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクであって、 前記金属マスク開口部から露出する前記樹脂マスクの表面の算術平均高さ(Sa)が0.8μm以下である、蒸着マスク。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10

Fターム (14件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB07 ,  3K107CC35 ,  3K107CC45 ,  3K107FF15 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  4K029BA62 ,  4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04