特許
J-GLOBAL ID:201903010636907020

波面制御素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 須田 篤 ,  楠 修二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-087478
公開番号(公開出願番号):特開2019-191114
出願日: 2018年04月27日
公開日(公表日): 2019年10月31日
要約:
【課題】より低いコストで、数10μm以下の構造を有する波面制御素子を製造することができる、波面制御素子の製造方法を提供する。【解決手段】周期的に凹凸を有する型11を用い、金属元素を含む材料粒子を、遠心充填により型11の凹部に充填して波面制御素子を製造する。型11は、凹部の深さが10μm以上300μm以下、凹凸の周期が100nm以上100μm以下であり、材料粒子は、直径が5nm以上10μm以下であり、凹部に充填可能な大きさを有している。遠心充填は、回転数が40000rpm以上である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
周期的に凹凸を有する型を用い、金属元素を含む材料粒子を、遠心充填により前記型の凹部に充填して波面制御素子を製造することを特徴とする波面制御素子の製造方法。
IPC (5件):
G21K 1/06 ,  B22F 7/06 ,  B22F 7/08 ,  B22F 1/00 ,  B22F 3/06
FI (7件):
G21K1/06 D ,  B22F7/06 A ,  B22F7/08 E ,  B22F1/00 P ,  B22F1/00 K ,  B22F1/00 R ,  B22F3/06
Fターム (16件):
4K018AA02 ,  4K018AA08 ,  4K018AA19 ,  4K018AA40 ,  4K018BA01 ,  4K018BA04 ,  4K018BA09 ,  4K018BA20 ,  4K018BB04 ,  4K018BB07 ,  4K018BD04 ,  4K018CA40 ,  4K018DA11 ,  4K018DA18 ,  4K018JA22 ,  4K018KA61

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