特許

J-GLOBAL ID：201903010932280378

コアシェル構造型触媒層の製造方法

発明者： 福長 博 ,  杉本 渉 ,  望月 大 ,  滝本 大裕
出願人/特許権者： 国立大学法人信州大学
代理人 (1件)： 吉村 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-030220
公開番号（公開出願番号）：特開2019-141809
出願日： 2018年02月22日
公開日（公表日）： 2019年08月29日
要約：

【課題】銅のアンダーポテンシャル析出法を利用して白金をシェル化したコアシェル構造型触媒層の新しい量産可能な製造方法を提供する。【解決手段】予めコアとなる金属で作製した金属触媒層に対して銅をアンダーポテンシェル析出させる工程と、アンダーポテンシェル析出した銅を白金で置換してシェル化する工程とを有する方法でコアシェル構造型触媒層を製造する。このとき、金属触媒層が、金属が担持されたシート状カーボンであり、その金属触媒層が、パラジウム若しくはルテニウム等の白金族金属、銅、ニッケル、コバルト又はそれらの合金が担持されたシート状カーボンであることが好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

予めコアとなる金属で作製した金属触媒層に対して銅をアンダーポテンシャル析出させる工程と、アンダーポテンシャル析出した前記銅を白金で置換してシェル化する工程と、を有することを特徴とするコアシェル構造型触媒層の製造方法。

IPC (2件)：

B01J 37/02 ,  B01J 23/44

FI (2件)：

B01J37/02 301N ,  B01J23/44 M

Fターム (35件)：

4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169AA11 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC31C ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CC32 ,  4G169DA05 ,  4G169EA07 ,  4G169EA11 ,  4G169EC27 ,  4G169EC28 ,  4G169FA02 ,  4G169FB21 ,  4G169FC04 ,  5H018AA06 ,  5H018BB05 ,  5H018BB06 ,  5H018BB08 ,  5H018BB12 ,  5H018BB13 ,  5H018BB17 ,  5H018DD06 ,  5H018DD10 ,  5H018EE03 ,  5H018EE05 ,  5H018EE18 ,  5H126BB06